講演名 2011-01-27
フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
石倉 徳洋, 新川 瑞季, 早川 涼, 鈴木 恵治郎, 足立 淳, 濱 陽介, 玉貫 岳正, グェン ホン チュエン, 馬場 俊彦,
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抄録(和) 我々は精度,均一性,再現性に優れたCMOSコンパチブルプロセスにより,フォトニック結晶導波路(PCW)スローライトデバイスを作製した.スポットサイズ変換器の集積により,外部光学系とPCWの結合効率を大幅に改善した.またPCW近傍に集積した個別制御可能な複数のヒーターの加熱により,PCW面内に所望の温度分布を形成し,これによる遅延チューニングを実証した.またこのような加熱を用いた遅延チューナブルデバイスを,光相関計における従来の低速な(~10Hz)機械可変遅延と置き換え,高速な(>1kHz)繰り返し周波数において相互相関波形を観測した.
抄録(英) We fabricated photonic crystal waveguide (PCW) slow light device using matured CMOS-compatible process, which provides high accuracy, uniformity and reproducibility. The optical coupling between external setup and the PCW is considerably improved by integrating spot size converters. Using individually controllable heaters integrated adjacent to the PCW, the temperature slope is formed on demand inside the PCW, and the delay is controlled via the heating power. We also proposed to replace conventional low-speed (~10 Hz) mechanically tunable delay line in optical correlator with the thermally tunable slow light device, and successfully observed the cross-correlation trace with a fast repetition frequency over 1 kHz.
キーワード(和) スローライト / シリコンフォトニクス / フォトニック結晶導波路 / 光相関計
キーワード(英) Slow light / silicon photonics / photonic crystal / optical correlator
資料番号 PN2010-37,OPE2010-150,LQE2010-135
発行日

研究会情報
研究会 PN
開催期間 2011/1/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Photonic Network (PN)
本文の言語 JPN
タイトル(和) フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Fabrication of Photonic Crystal Slow Light Devices using CMOS-compatible Process and Application of Its Delay Tuning with Thermal Heating
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) スローライト / Slow light
キーワード(2)(和/英) シリコンフォトニクス / silicon photonics
キーワード(3)(和/英) フォトニック結晶導波路 / photonic crystal
キーワード(4)(和/英) 光相関計 / optical correlator
第 1 著者 氏名(和/英) 石倉 徳洋 / Norihiro Ishikura
第 1 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 2 著者 氏名(和/英) 新川 瑞季 / Mizuki Shinkawa
第 2 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 3 著者 氏名(和/英) 早川 涼 / Ryo Hayakawa
第 3 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 4 著者 氏名(和/英) 鈴木 恵治郎 / Keijiro Suzuki
第 4 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 5 著者 氏名(和/英) 足立 淳 / Jun Adachi
第 5 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 6 著者 氏名(和/英) 濱 陽介 / Yosuke Hama
第 6 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 7 著者 氏名(和/英) 玉貫 岳正 / Takemasa Tamanuki
第 7 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 8 著者 氏名(和/英) グェン ホン チュエン / Hong C. Nguyen
第 8 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
第 9 著者 氏名(和/英) 馬場 俊彦 / Toshihiko Baba
第 9 著者 所属(和/英) 横浜国立大学大学院・工学部
Yokohama National University
発表年月日 2011-01-27
資料番号 PN2010-37,OPE2010-150,LQE2010-135
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 394
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日