講演名 2010-12-10
コリメータスパッタリングによる結晶配向制御の基礎検討(信号処理及び一般)
本多 直樹, 本多 章人,
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抄録(和) 傾斜異方性磁気記録媒体の作製を目指して,コリメータスパッタリングによる薄膜の結晶配向制御の基礎検討を行った.Co-Cr合金膜やRu膜ではhcp軸の膜面垂直配向について,コリメータによる配向促進効果を確認できた.しかし、斜方堆積では,コリメータ軸を45度まで傾斜させても,配向軸の傾きは2度以下の僅かな値しか得られなかった.斜め配向膜の作製にはスパッタ堆積機構についての詳細な検討が必要である.
抄録(英) Fundamental investigation was performed for crystalline orientation control by collimated sputtering with the purpose of obtaining inclined anisotropy media. Enhancement effect of crystalline orientation by the collimator was observed for perpendicular orientation of hcp c-axis of Co-Cr alloy and Ru films. However, only small inclined angles of less than 2 degrees were obtained with inclined deposition using inclined collimators though the collimator angle was increased as large as 45 degrees. Further detailed study is required to obtain an inclined orientation film.
キーワード(和) コリメータスパッタリング / 斜方堆積 / 結晶配向 / 磁気記録媒体 / Co-Cr合金
キーワード(英) Collimated sputtering / Inclined deposition / Crystalline orientation / Magnetic recording media / Co-Cr alloy
資料番号 MR2010-51
発行日

研究会情報
研究会 MR
開催期間 2010/12/2(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Magnetic Recording (MR)
本文の言語 JPN
タイトル(和) コリメータスパッタリングによる結晶配向制御の基礎検討(信号処理及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Fundamental study of crystalline orientation control by collimated sputtering
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) コリメータスパッタリング / Collimated sputtering
キーワード(2)(和/英) 斜方堆積 / Inclined deposition
キーワード(3)(和/英) 結晶配向 / Crystalline orientation
キーワード(4)(和/英) 磁気記録媒体 / Magnetic recording media
キーワード(5)(和/英) Co-Cr合金 / Co-Cr alloy
第 1 著者 氏名(和/英) 本多 直樹 / Naoki HONDA
第 1 著者 所属(和/英) 東京工業大学工学部
Faculty of Engineering, Tohoku Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 本多 章人 / Akito HONDA
第 2 著者 所属(和/英) 東京工業大学工学部
Faculty of Engineering, Tohoku Institute of Technology
発表年月日 2010-12-10
資料番号 MR2010-51
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 329
ページ範囲 pp.-
ページ数 8
発行日