講演名 2010-12-10
CPW-FMR測定法による磁性薄膜のダンピング定数の評価(信号処理及び一般)
遠藤 恭, 三束 芳央, 大川 耕平, 島田 寛, 山口 正洋,
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抄録(和) 最近急速に発展している磁気記録およびスピントロニクス分野では,Ni-Fe薄膜の高速磁化反転の機構解明が重要な研究課題の一つとなっている.我々は,Mi組成(x)および遷移金属(M)組成(y)の異なる50nm厚のNi_xFe_<1-x>膜および(Ni-Fe)_<1-y>M_y膜について,高速磁化反転の支配要因であるダンピング定数(α)を CPW-FMR測定法により,飽和磁歪(λ_s)を光てこ法により評価し,αとλ_sの相関を系統的に調ペた.Ni_xFe_<1-x>膜に関しては,αはxの増加にともない緩やかに減少し,x=0.78付近で最小となり,その後増加している.また,λ_sはxの増加にともない単調に減少している.また,州 1 - Fe ) , - yMy 膜に関しては,いずれの M においても, α とス 5 はいずれも y の増加にともないほぼ単調に増加し,その変化量は Pt , Au , Pd , Cr の J 頃で大きくなっている.これらの結果から, Ni-Fe系薄膜では,αとλ_sが相間関係にあり,αの支配因子が磁気弾性エネルギーによっていることを確認できた.また,αの制御法として遷移金属の添加が有効であることを示している.
抄録(英) This paper reports the study on the damping constants (α) of Ni_xFe_<1-x> (0.65M_y (M=Pt, Au, Pd, Cr; 0 films, α slightly decreases for 0.67M_y films, both α and |λ_s| linearly increases with increasing y. Furthermore, the increments of α and the absolute value of λ_s (|λ_s|) to y are markedly enhanced in the order of M = Pt, Au, Pd, and Cr suggesting that 5d transition metal dopants are more influential on bothα and λ_s, than 3d and 4d transition metal dopants due to the strong spin-orbit interaction. Based on these results, it is speculated that the dominant factor of α in Ni_xFe_<1-x> and (Ni-Fe)_<1-x>M_x films is themagnetoelastic energy (E_σ). These results also demonstrate that α can be controlled effectively through the change in E_σ by transition metal dopants.
キーワード(和) CPW-FMR測定法 / Ni-Fe薄膜 / ダンピング定数(α) / 飽和磁歪(λ_s) / 遷移金属添加
キーワード(英) CPW-FMR measurement / Ni-Fe films / Damping constant (α) / Saturation magnetostriction (λ_s) / Transition metal dopants
資料番号 MR2010-49
発行日

研究会情報
研究会 MR
開催期間 2010/12/2(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Magnetic Recording (MR)
本文の言語 JPN
タイトル(和) CPW-FMR測定法による磁性薄膜のダンピング定数の評価(信号処理及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Study on the damping constant of magnetic thin film using a coplanar waveguide (CPW)-ferromagnetic resonance (FMR) measurement method
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) CPW-FMR測定法 / CPW-FMR measurement
キーワード(2)(和/英) Ni-Fe薄膜 / Ni-Fe films
キーワード(3)(和/英) ダンピング定数(α) / Damping constant (α)
キーワード(4)(和/英) 飽和磁歪(λ_s) / Saturation magnetostriction (λ_s)
キーワード(5)(和/英) 遷移金属添加 / Transition metal dopants
第 1 著者 氏名(和/英) 遠藤 恭 / Yasushi ENDO
第 1 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
第 2 著者 氏名(和/英) 三束 芳央 / Yoshi MITSUZUKA
第 2 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
第 3 著者 氏名(和/英) 大川 耕平 / Kohei OKAWA
第 3 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
第 4 著者 氏名(和/英) 島田 寛 / Yutaka SHIMADA
第 4 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
第 5 著者 氏名(和/英) 山口 正洋 / Masahiro YAMAGUCHI
第 5 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
発表年月日 2010-12-10
資料番号 MR2010-49
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 329
ページ範囲 pp.-
ページ数 8
発行日