| 講演名 | 2011-01-20 Pt/Co/α-Cr_2O_3(0001)薄膜における高い垂直交換バイアスとその特異な温度依存性(映像情報機器,一般) 及川 博人, 納富 隼人, 藤田 敏章, 白土 優, 中谷 亮一, |
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| 抄録(和) | 反応性DCマグネトロンスパッタリング法によって作製されたPt/Co/α-Cr_2O_3(0001)薄膜における垂直交換バイアスについて検討した.α-Cr_2O_3層上で,Pt/Co積層膜は垂直磁気異方性(PMA)と垂直交換バイアス(PEB)を示した.PEBは室温では観測されないが,温度を低下させると,例えば,α-Cr_2O_3膜厚が50nmの場合には,170Kで発現する.交換バイアス磁場と飽和磁化から求められた一方向性磁気異方性エネルギーJ_Kは,約0.29erg/cm^2となった.この値は,α-Cr_2O_3を反強磁性体として用いた系で観測されているJ_Kの値の中で,最高の値である.さらに温度を低下させると,180-80Kの間で,PEBは低下する.PEBの温度依存性を,MeiklejohnとBeanによって提唱された交換磁気異方性モデルに基づいて議論した結果,PEBの急激な発現は,界面結合エネルギーJ_ |
| 抄録(英) | We investigated perpendicular exchange bias of Pt/Co/α-Cr_2O_3(0001) thin films which were fabricated by means of DC magnetron sputtering method. The Pt/Co bilayer which was deposited on α-Cr_2O_3(0001) layer has perpendicular magnetic anisotropy (PMA) and perpendicular exchange bias (PEB). Although PEB is not observed at RT, it appears suddenly at a given temperature, and it had a unique temperature dependence. Unidirectional magnetic anisotropy energy, J_K of about 0.29 erg/cm^2 is obtained. The mechanism of suddenly appearance of J_K is discussed on the basis of Meiklejohn and Bean's exchange anisotropy model. |
| キーワード(和) | α-Cr_2O_3薄膜 / 垂直交換バイアス / DCマグネトロンスパッタリング |
| キーワード(英) | α-Cr_2O_3 thin film / Perpendicular exchange bias / DC magnetron sputtering |
| 資料番号 | MR2010-53 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2011/1/13(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Pt/Co/α-Cr_2O_3(0001)薄膜における高い垂直交換バイアスとその特異な温度依存性(映像情報機器,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | High perpendicular exchange bias with a unique temperature dependence in Pt/Co/α-Cr_2O_3(0001) thin films |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | α-Cr_2O_3薄膜 / α-Cr_2O_3 thin film |
| キーワード(2)（和/英） | 垂直交換バイアス / Perpendicular exchange bias |
| キーワード(3)（和/英） | DCマグネトロンスパッタリング / DC magnetron sputtering |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 及川 博人 / Hiroto OIKAWA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 大阪大学大学院工学研究科 Department of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 納富 隼人 / Hayato NOUTOMI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 大阪大学大学院工学研究科 Department of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 藤田 敏章 / Toshiaki FUJITA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 大阪大学大学院工学研究科 Department of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 白土 優 / Yu SHIRATSUCHI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 大阪大学大学院工学研究科 Department of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 中谷 亮一 / Ryoichi NAKATANI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 大阪大学大学院工学研究科 Department of Materials Science and Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka University |
| 発表年月日 | 2011-01-20 |
| 資料番号 | MR2010-53 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | 379 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |