講演名 2010-11-12
GaN自立基板を用いた縦型ダイオード(窒化物及び混晶半導体デバイス)
八木 修一, 平田 祥子, 住田 行常, 別所 公博, 河合 弘治, 松枝 敏晴, 碓井 彰,
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抄録(和) 2インチn型GaN自立基板上にMOCVD法を用いてGaNエピタキシャル成長した基板を使用し、縦型のショットキーバリアダイオード(SBD)を作成し特性評価を行った。使用したGaN自立基板の特性は、基板の厚さは400μm、比抵抗は≦2×10^<-2>Ωcmである。エピタキシャル成長したn^-GaNの厚さは7μm、キャリア濃度は8×10^<15>cm^<-3>である。作成したフィールドプレート構造を持たないSBDのDC特性として、特性オン抵抗(R_A)が2mΩcm^2、オフ耐圧は546Vを得た。電流コラプスの影響もほとんど無く、温度特性も良好だった。
抄録(英) We report the fabrication of schottky barrier diode (SBD) on GaN free-standing substrate. SBDs showed good DC operating characteristics. The breakdown voltage and the specific on-resistance (R_A) of the SBD without field plate structure on GaN free-standing substrate were 546 V and 2 mΩcm^2, respectively. SBDs on GaN free-standing substrate were hardly influenced by the current collapse.
キーワード(和) GaN / SBD / 自立基板 / 電流コラプス
キーワード(英) GaN / SBD / GaN free-standing substrate / Current collapse
資料番号 ED2010-156,CPM2010-122,LQE2010-112
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2010/11/4(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) GaN自立基板を用いた縦型ダイオード(窒化物及び混晶半導体デバイス)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Vertical GaN Diode on GaN Free-Standing Substrate
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GaN / GaN
キーワード(2)(和/英) SBD / SBD
キーワード(3)(和/英) 自立基板 / GaN free-standing substrate
キーワード(4)(和/英) 電流コラプス / Current collapse
第 1 著者 氏名(和/英) 八木 修一 / Shuichi YAGI
第 1 著者 所属(和/英) 株式会社パウデック
POWDEC. K. K.
第 2 著者 氏名(和/英) 平田 祥子 / Shoko HIRATA
第 2 著者 所属(和/英) 株式会社パウデック
POWDEC. K. K.
第 3 著者 氏名(和/英) 住田 行常 / Yasunobu SUMIDA
第 3 著者 所属(和/英) 株式会社パウデック
POWDEC. K. K.
第 4 著者 氏名(和/英) 別所 公博 / Masahiro BESSHO
第 4 著者 所属(和/英) 株式会社パウデック
POWDEC. K. K.
第 5 著者 氏名(和/英) 河合 弘治 / Hiroji KAWAI
第 5 著者 所属(和/英) 株式会社パウデック
POWDEC. K. K.
第 6 著者 氏名(和/英) 松枝 敏晴 / Toshiharu MATSUEDA
第 6 著者 所属(和/英) 古河機械金属株式会社ナイトライド事業室
Nitride Semiconductors Department, R&D Division, Furukawa Co., Ltd.
第 7 著者 氏名(和/英) 碓井 彰 / Akira USUI
第 7 著者 所属(和/英) 古河機械金属株式会社ナイトライド事業室
Nitride Semiconductors Department, R&D Division, Furukawa Co., Ltd.
発表年月日 2010-11-12
資料番号 ED2010-156,CPM2010-122,LQE2010-112
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 272
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日