講演名 | 2010-11-12 GaN自立基板を用いた縦型ダイオード(窒化物及び混晶半導体デバイス) 八木 修一, 平田 祥子, 住田 行常, 別所 公博, 河合 弘治, 松枝 敏晴, 碓井 彰, |
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抄録(和) | 2インチn型GaN自立基板上にMOCVD法を用いてGaNエピタキシャル成長した基板を使用し、縦型のショットキーバリアダイオード(SBD)を作成し特性評価を行った。使用したGaN自立基板の特性は、基板の厚さは400μm、比抵抗は≦2×10^<-2>Ωcmである。エピタキシャル成長したn^-GaNの厚さは7μm、キャリア濃度は8×10^<15>cm^<-3>である。作成したフィールドプレート構造を持たないSBDのDC特性として、特性オン抵抗(R_ |
抄録(英) | We report the fabrication of schottky barrier diode (SBD) on GaN free-standing substrate. SBDs showed good DC operating characteristics. The breakdown voltage and the specific on-resistance (R_ |
キーワード(和) | GaN / SBD / 自立基板 / 電流コラプス |
キーワード(英) | GaN / SBD / GaN free-standing substrate / Current collapse |
資料番号 | ED2010-156,CPM2010-122,LQE2010-112 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 2010/11/4(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | GaN自立基板を用いた縦型ダイオード(窒化物及び混晶半導体デバイス) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Vertical GaN Diode on GaN Free-Standing Substrate |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | GaN / GaN |
キーワード(2)(和/英) | SBD / SBD |
キーワード(3)(和/英) | 自立基板 / GaN free-standing substrate |
キーワード(4)(和/英) | 電流コラプス / Current collapse |
第 1 著者 氏名(和/英) | 八木 修一 / Shuichi YAGI |
第 1 著者 所属(和/英) | 株式会社パウデック POWDEC. K. K. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 平田 祥子 / Shoko HIRATA |
第 2 著者 所属(和/英) | 株式会社パウデック POWDEC. K. K. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 住田 行常 / Yasunobu SUMIDA |
第 3 著者 所属(和/英) | 株式会社パウデック POWDEC. K. K. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 別所 公博 / Masahiro BESSHO |
第 4 著者 所属(和/英) | 株式会社パウデック POWDEC. K. K. |
第 5 著者 氏名(和/英) | 河合 弘治 / Hiroji KAWAI |
第 5 著者 所属(和/英) | 株式会社パウデック POWDEC. K. K. |
第 6 著者 氏名(和/英) | 松枝 敏晴 / Toshiharu MATSUEDA |
第 6 著者 所属(和/英) | 古河機械金属株式会社ナイトライド事業室 Nitride Semiconductors Department, R&D Division, Furukawa Co., Ltd. |
第 7 著者 氏名(和/英) | 碓井 彰 / Akira USUI |
第 7 著者 所属(和/英) | 古河機械金属株式会社ナイトライド事業室 Nitride Semiconductors Department, R&D Division, Furukawa Co., Ltd. |
発表年月日 | 2010-11-12 |
資料番号 | ED2010-156,CPM2010-122,LQE2010-112 |
巻番号(vol) | vol.110 |
号番号(no) | 272 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |