| 講演名 | 2010-11-11 触媒反応により生成した高エネルギーH_2Oを用いてサファイア基板上に成長したZnO結晶薄膜の光学特性(窒化物及び混晶半導体デバイス) 三浦 仁嗣, 大谷 孝史, 黒田 朋義, 西山 洋, 安井 寛治, |
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| 抄録(和) | 白金ナノ粒子表面での水素と酸素の発熱反応を利用して高エネルギーH_2Oを生成、アルキル亜鉛ガスと衝突させ生成した高エネルギーZnOプリカーサを基板に供給、サファイアA面基板上にZnO結晶膜を成長させた。サファイア基板をリファレンスにしたサンプルの透過率は、可視・近赤外領域で95%以上と非常に透明であった。室温PL測定では3.29eVに半値幅104meVの強いバンド端発光を観測した。低温PL測定(5K)では3.3603eVに中性ドナー束縛励起子からの発光が最も強く見られ、その半値幅は1.0meVであった。また3.3757eVと3.4221eVに自由励起子によると考えられる発光FX_A(n=1)、及びFX_A(n=2)を観測した。 |
| 抄録(英) | Optical properties of ZnO thin films, which were grown through a reaction between dimethylzinc and high-energy H_2O produced by a Pt-catalyzed H_2-O_2 reaction, were measured. The films were grown directly on a-plane (11-20) sapphire substrates at 773-873 K without a buffer layer. The optical transparency of the ZnO films in the visible and near-infrared regions was more than 95% of that of a substrate without ZnO film. Intense band-edge luminescence was observed at 3.29 eV at room temperature, and its FWHM value was 104 meV. The most intense PL peak at low temperature (5 K) was observed at 3.3803 eV, and was assigned to luminescence from donor bound excitons, the associated FWHM value being 1.0 meV. At the same time, free exciton peaks derived from FX_A (n=1) and FX_A (n=2) were observed. |
| キーワード(和) | ZnO / 触媒反応 / 高エネルギーH_2O / 光透過率 / フォトルミネッセンス |
| キーワード(英) | ZnO / catalytic reaction / high-energy H_2O / optical transparency / photoluminescence |
| 資料番号 | ED2010-142,CPM2010-108,LQE2010-98 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2010/11/4(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 触媒反応により生成した高エネルギーH_2Oを用いてサファイア基板上に成長したZnO結晶薄膜の光学特性(窒化物及び混晶半導体デバイス) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Optical properties of ZnO films grown on sapphire substrates using high-energy H_2O generated by a catalytic reaction |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ZnO / ZnO |
| キーワード(2)（和/英） | 触媒反応 / catalytic reaction |
| キーワード(3)（和/英） | 高エネルギーH_2O / high-energy H_2O |
| キーワード(4)（和/英） | 光透過率 / optical transparency |
| キーワード(5)（和/英） | フォトルミネッセンス / photoluminescence |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 三浦 仁嗣 / Hitoshi MIURA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 大谷 孝史 / Takashi OOTANI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 黒田 朋義 / Tomoyoshi KURODA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 西山 洋 / Hiroshi NISHIYAMA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 安井 寛治 / Kanji YASUI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 長岡技術科学大学 Faculty of Engineering, Nagaoka University of Technology |
| 発表年月日 | 2010-11-11 |
| 資料番号 | ED2010-142,CPM2010-108,LQE2010-98 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | 272 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |