| 講演名 | 2010-09-10 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般) 籾山 克章, 鈴木 貴彦, 廣瀬 文彦, |
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| 抄録(和) | 高効率太陽電池材料として期待されるβ-FeSi_2を大面積製膜で有利な固相反応エピタキシー法を用いて、100nm以上の厚膜の形成を試みた。結晶性の評価法として、反射高速電子線回折(Reflection High Energy Electron Diffraction : RHEED)とX線回折を用いた。本研究ではRHEED像がβ-FeSi_2であることを判定するために、β-FeSi_2用のRHEEDシミュレーション技術を開発した。本研究では、100nm程度のFe膜を室温でSi基板上に蒸着し、基板温度を上昇させながら、表面の結晶構造の変化をRHEEDで観察し、相図としてまとめた。その結果、表面は、基板温度上昇に伴って、Fe結晶、アモルファス、β-FeSi_2、β-FeSi_2消失へと変化することがわかり、XRDやEDSの結果を併せて、拡散機構のモデル化を行った。 |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | β-FeSi_2 / SPE / RHEED |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | CPM2010-89 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2010/9/3(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 固相拡散法を用いた厚膜鉄シリサイドの試作と評価(光記録技術・電子材料,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | β-FeSi_2 |
| キーワード(2)（和/英） | SPE |
| キーワード(3)（和/英） | RHEED |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 籾山 克章 |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学大学院理工学研究科 |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 鈴木 貴彦 |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学工学部 |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 廣瀬 文彦 |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学大学院理工学研究科 |
| 発表年月日 | 2010-09-10 |
| 資料番号 | CPM2010-89 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | 202 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |