講演名 2010-10-15
ハンマリング加振機構による電気接点の劣化現象 : 接触抵抗について(13)
和田 真一, 越田 圭治, 園田 健人, ノロブリン サインダー, 小田部 正能, 久保田 洋彰, 澤 孝一郎,
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抄録(和) 著者らは,摺動接触機構を用いて,摩擦力2.0Nおよび0.3N,摺動振幅±5.0μmおよび±10.0μmの条件で,それぞれ約2500万回の実験を行い,抵抗値の増加を測定した.さらに,接触抵抗の時系列変動における接点の相対変位に与えるパラメータ(摺動振幅・摩擦力)の検討をした.また,モータ等の駆動電流に相当する電流(約500mA)を通電した時の系列変動についても検討した.摺動振幅・摩擦力に加えて,通電電流を考慮することで,接触抵抗の変動にfrettingやslidingのモデルを適用する必要性が示唆された.
抄録(英) Authors measured increasing resistances on electrical contacts by means of sliding contact mechanism respectively on the conditions that (1) frictional forces were 2.0N or 0.3N and (2) sliding amplitudes were ±5.0μm or ±10.0μm under the operation number of about 25 milions. It was studied that there were the parameters (frictional force and sliding amplitude) caused the relative displacements of the electrical contacts on the time-sequential fluctuations of the contact resistances. They measured increasing resistances on electrical contacts when current was 500mA. And it was suggested that the fretting corrosion model or sliding contact one would be indispensable to applied to the fluctuation of contact resistance in consideration of sliding amplitudes, frictional force and current.
キーワード(和) 電気接点 / 微小振動 / 接触抵抗 / 摺動接触機構 / 摺動振幅 / 摩擦力 / 電流
キーワード(英) electrical contact / micro-oscillation / contact resistance / sliding contact mechanism / sliding amplitude / frictional force / current
資料番号 EMD2010-65
発行日

研究会情報
研究会 EMD
開催期間 2010/10/8(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electromechanical Devices (EMD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) ハンマリング加振機構による電気接点の劣化現象 : 接触抵抗について(13)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Degradation phenomenon of electrical contacts by hammering oscillating mechanism : Contact Resistance (13)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 電気接点 / electrical contact
キーワード(2)(和/英) 微小振動 / micro-oscillation
キーワード(3)(和/英) 接触抵抗 / contact resistance
キーワード(4)(和/英) 摺動接触機構 / sliding contact mechanism
キーワード(5)(和/英) 摺動振幅 / sliding amplitude
キーワード(6)(和/英) 摩擦力 / frictional force
キーワード(7)(和/英) 電流 / current
第 1 著者 氏名(和/英) 和田 真一 / Shin-ichi WADA
第 1 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 越田 圭治 / Keiji KOSHIDA
第 2 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 園田 健人 / Taketo SONODA
第 3 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) ノロブリン サインダー / Saindaa NOROVLING
第 4 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 5 著者 氏名(和/英) 小田部 正能 / Masayoshi KOTABE
第 5 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 6 著者 氏名(和/英) 久保田 洋彰 / Hiroaki KUBOTA
第 6 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 7 著者 氏名(和/英) 澤 孝一郎 / Koichiro SAWA
第 7 著者 所属(和/英) 慶応義塾大学:日本工業大学
Keio University:Nippon Institute of Technology
発表年月日 2010-10-15
資料番号 EMD2010-65
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 230
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日