講演名 2010-10-29
Alq_3/PEDOTを用いたスピンコート法による2層低分子有機EL薄膜の簡易作製(薄膜プロセス・材料,一般)
中條 妃奈, 野田 淳史, 岩田 展幸, 山本 寛,
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抄録(和) 低分子材料を用いた2層有機EL薄膜の作製を行っている。一般的に低分子の成膜にはドライプロセスである真空蒸着法が用いられているが、高温、高真空である必要がある。そこで溶媒を使用したウェットプロセスに注目した。ウェットプロセスの中でも、長時間の浸漬をせず積層膜の成膜に適したスピンコート法を用いることにした。溶液には正孔注入層としてポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)溶液を、電子輸送層および発光層としてトリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq_3)を用いた。I-V測定を行った結果、最大電流密度が正孔注入層を設けないものでは0.055mA/cm^2、正孔注入層を設けたものでは0.11mA/cm^2を示した。
抄録(英) We are making two layer organic EL thin film composed of low molecular materials. Generally, preparation of low molecular thin film is carried out by dry process such as deposition in vacuum. However in the dry process, rather high temperature and high vacuum are required. Otherwise, wet process has advantage from the view of easy preparation method and non-expensive equipment. We adopted a spin coat method to accumulate organic multilayers. Materials used was poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/poly(4-styrenesulfonate) (PEDOT/PSS) as the hole injection layer and tris(8-hydroxyquinoline) aluminum (Alq_3) as electronic transportation layer and luminous layer. Result of measuring I-V, the maximum current density of Alq_3 is 0.055mA/cm^2 and PEDOT/Alq_3 is 0.11mA/cm^2.
キーワード(和) 有機EL薄膜 / スピンコート / Alq_3 / PEDOT
キーワード(英) Organic Thin Film / spin coat / Alq_3 / PEDOT
資料番号 CPM2010-106
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2010/10/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Alq_3/PEDOTを用いたスピンコート法による2層低分子有機EL薄膜の簡易作製(薄膜プロセス・材料,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Preparation of two layers Organic Thin Film using Alq_3/PEDOT by spin coat
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 有機EL薄膜 / Organic Thin Film
キーワード(2)(和/英) スピンコート / spin coat
キーワード(3)(和/英) Alq_3 / Alq_3
キーワード(4)(和/英) PEDOT / PEDOT
第 1 著者 氏名(和/英) 中條 妃奈 / Hina CHUJO
第 1 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science & Technology, NIHON UNIVERSITY
第 2 著者 氏名(和/英) 野田 淳史 / Atsushi NODA
第 2 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science & Technology, NIHON UNIVERSITY
第 3 著者 氏名(和/英) 岩田 展幸 / Nobuyuki IWATA
第 3 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science & Technology, NIHON UNIVERSITY
第 4 著者 氏名(和/英) 山本 寛 / Hiroshi YAMAMOTO
第 4 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部
College of Science & Technology, NIHON UNIVERSITY
発表年月日 2010-10-29
資料番号 CPM2010-106
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 261
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日