講演名 2010-06-29
音の臨場感に対する物理特性の影響の評価 : サンプリング周波数の高低が音の迫力に及ぼす影響(聴覚ディスプレイ,人工現実感)
中原 啓希, 大倉 典子,
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抄録(和) 音の物理特性が音の臨場感に及ぼす影響を調べることで,音の臨場感を評価する指標を示すことができる.音の物理特性や音の印象を表す言葉には様々なものがあるが,今回の実験では,音の物理特性としてサンプリング周波数,音の臨場感に関連する印象を表す言葉として「迫力」を選択した.ヘッドフォンでの音の試聴時において,音のサンプリング周波数の違いが音の迫力に及ぼす影響を明らかにするため,オーケストラ4曲と環境音4つを16名の被験者を対象に試聴実験を行い,アンケート評価を行った.その結果,音のサンプリング周波数の変化によっては,迫力に関する印象評価に差が出る場合があることがわかった.
抄録(英) By examining the effect of sound physical characteristics to the presence of sound, we can show an index to evaluate the presence of sound. Although there are various sound physical characteristics and various words to express sounds impression, we selected sampling frequency as a sound physical characteristic and "powerful" as a word to express impression related to "powerful" for the experiment this time. At audition of sound through headphone, we performed an experiment in which 16 participants heard 4 orchestra music and 4 environmental sounds and answered a questionnaire in order to clarify the difference of sampling frequency of sound affects the sound impression of power. As the result, it was confirmed that a certain kind of change of sampling frequency of sound affect the difference of impression evaluation related to "powerful."
キーワード(和) 臨場感 / 迫力 / サンプリング周波数
キーワード(英) presence / impression of power / sampling frequency
資料番号 MVE2010-24
発行日

研究会情報
研究会 MVE
開催期間 2010/6/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Media Experience and Virtual Environment (MVE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 音の臨場感に対する物理特性の影響の評価 : サンプリング周波数の高低が音の迫力に及ぼす影響(聴覚ディスプレイ,人工現実感)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Evaluation of effect of sound physical characteristics for presence of sound : Effect of difference of sampling frequency for sound impression of power
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 臨場感 / presence
キーワード(2)(和/英) 迫力 / impression of power
キーワード(3)(和/英) サンプリング周波数 / sampling frequency
第 1 著者 氏名(和/英) 中原 啓希 / Hiroki NAKAHARA
第 1 著者 所属(和/英) 芝浦工業大学
Shibaura Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 大倉 典子 / Michiko OHKURA
第 2 著者 所属(和/英) 芝浦工業大学
Shibaura Institute of Technology
発表年月日 2010-06-29
資料番号 MVE2010-24
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 108
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日