| 講演名 | 2010-08-26 ポリマー光導波路技術の最新研究開発動向(光部品・電子デバイス実装技術,一般) 小林 壮一, 石倉 隆広, 松田 和也, 隠岐 正義, 須田 俊央, |
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| 抄録(和) | 本報告では、ポリマー光導波路の作製技術を基本としたポリマー光導波路の特徴について述べ、光配線板、光デバイスへの応用に付いて言及している。本稿では、マルチモード光導波路を基本とした光配線実用化を目指した光インターコネクション技術についてポリマー光導波路への期待とそれを支える材料技術について述べ、光プリント板内光導波路、光バックプレーン光導波路、光インターコネクションにおける環境条件を満たすべき課題を明確にする。ポリマー光導波路でも光通信波長帯で低損失が期待できるフォトブリーチング技術によるポリシラン光導波路の作製技術と狭帯域フィルタ、チューナブルレーザの可能性について述べる。 |
| 抄録(英) | Polymer optical waveguides are attractive as optical components in optical interconnects and optical communication systems because of the potential of easy low-temperature and low-cost fabrication. In this review Optical printed-circuit boards (PCBs) are discussed with optical transmitter-receiver components, chip-to-chip, and board-to-board optical interconnects through optical backpalne boards. Advances in polymer waveguide technologies developed at various companies and organizations are reported such as loss minimized by halogenation, low birefringence without stress, high thermal stability, refractive-index controllability, and good adhesion with silicon substrate. As a future technology, the photo-bleaching technologies with polysilane waveguides on tunable filters and tunable optical sources are discussed. |
| キーワード(和) | 光配線板 / ポリマー光導波路 / ポリシラン / 回折格子 |
| キーワード(英) | optical interconnection / Polymer optical waveguiude / Polysilane / Grating |
| 資料番号 | EMD2010-33,CPM2010-49,OPE2010-58,LQE2010-31 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
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| 開催期間 | 2010/8/19(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ポリマー光導波路技術の最新研究開発動向(光部品・電子デバイス実装技術,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Recent Advances in Polymer Optical Waveguide Technologies |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光配線板 / optical interconnection |
| キーワード(2)（和/英） | ポリマー光導波路 / Polymer optical waveguiude |
| キーワード(3)（和/英） | ポリシラン / Polysilane |
| キーワード(4)（和/英） | 回折格子 / Grating |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小林 壮一 / Soichi KOBAYASHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 千歳科学技術大学総合光科学部光システム学科 Chitose Institute of Science and Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 石倉 隆広 / Takahiro ISHIKURA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 千歳科学技術大学総合光科学部光システム学科 Chitose Institute of Science and Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 松田 和也 / Kazuya MATSUDA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 千歳科学技術大学総合光科学部光システム学科 Chitose Institute of Science and Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 隠岐 正義 / Seigi OKI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 千歳科学技術大学総合光科学部光システム学科 Chitose Institute of Science and Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 須田 俊央 / Toshihiro SUDA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | フォトニックサイエンステクノロジ株式会社 Photonic Science Technology, Inc. |
| 発表年月日 | 2010-08-26 |
| 資料番号 | EMD2010-33,CPM2010-49,OPE2010-58,LQE2010-31 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | 181 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |