| 講演名 | 2010-07-09 粒分離を向上した熱アシスト記録用[Co/Pd]_n多層媒体(媒体,一般) 廣常 朱美, 根本 広明, 武隈 育子, 中村 公夫, 市原 貴幸 /, |
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| 抄録(和) | 熱アシスト記録において、媒体の磁気特性及び微細構造を向上し、これらが記録特性に与える影響を調べた。[Co/Pd]_n多層膜にボロンと酸素を添加、基板冷却プロセスを導入し、粒分離を向上した媒体が得られた。さらに、磁気クラスターサイズを低減することにより、記録ビット長を低減できることがわかった。これらの結果、媒体の磁気クラスターサイズを約30nmに低減、25nm長のビットを熱アシスト記録することに成功した。 |
| 抄録(英) | The effect of the magnetic and structural properties on recording performance was investigated. Well grain-isolated media were obtained by adding boron and oxygen into the [Co/Pd]_n multilayer and cooling the substrate. We found that the recorded bit size could be decreased by reducing the magnetic cluster size. Twenty-five-nm bits were successfully recorded with thermal assist on the improved media with a magnetic cluster size of about 30 nm. |
| キーワード(和) | [Co/Pd]_n多層膜 / grain isolation / 磁気クラスターサイズ / 熱アシスト磁気記録 / 人工格子 |
| キーワード(英) | [Co/Pd]_n multilayer / grain isolation / magnetic cluster size / thermally assisted magnetic recording |
| 資料番号 | MR2010-19 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2010/7/1(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 粒分離を向上した熱アシスト記録用[Co/Pd]_n多層媒体(媒体,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Improved Grain Isolation in [Co/Pd]_n Multilayer Media for Thermally Assisted Magnetic Recording |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | [Co/Pd]_n多層膜 / [Co/Pd]_n multilayer |
| キーワード(2)（和/英） | grain isolation / grain isolation |
| キーワード(3)（和/英） | 磁気クラスターサイズ / magnetic cluster size |
| キーワード(4)（和/英） | 熱アシスト磁気記録 / thermally assisted magnetic recording |
| キーワード(5)（和/英） | 人工格子 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 廣常 朱美 / Akemi HIROTSUNE |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 株式会社日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 根本 広明 / Hiroaki NEMOTO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 株式会社日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 武隈 育子 / Ikuko TAKEKUMA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 株式会社日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 中村 公夫 / Kimio NAKAMURA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 株式会社日立製作所中央研究所 Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 市原 貴幸 / / Takayuki ICHIHARA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 株式会社日立製作所中央研究所 / Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 発表年月日 | 2010-07-09 |
| 資料番号 | MR2010-19 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | 112 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |