| 講演名 | 2010-01-29 アルミニウム表面プラズモンカラーフィルタ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般) 池田 直樹, 津谷 大樹, 杉本 喜正, 小出 康夫, 三浦 篤志, 井上 大介, 野村 壮士, 藤川 久喜, 佐藤 和夫, |
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| 抄録(和) | 本研究では、表面プラズモン共鳴を利用したカラーフィルタの開発を目的とし、高いプラズマ周波数を有し従来の半導体微細加工技術が適用可能なアルミニウム薄膜に電子ビーム描画および反応性イオンエッチングを用い周期300～400nm、直径150～200nm程度の高精度なホールアレイを形成した。ホールアレイは、周期を制御することで可視光全領域をカバーする透過率30%、透過帯域50nmのフィルタ特性を示した。 |
| 抄録(英) | In order to realize surface plasmon color filter we fabricated precise hole array which lattice constant of 300～400nm using electron beam lithography and reactive ion beam etching in Aluminum thin film with high plasma frequency. Transmission thorough hole array which caused by resonance of surface plasmon is controlled by lattice constant. Hole array show filter characteristics of transmission of 30% and band width of 5Onm in full visible light region. |
| キーワード(和) | 表面プラズモン / プラズマ周波数 / 電子ビーム描画 / 反応性イオンエッチング |
| キーワード(英) | Surface plasmon / Plasma frequency / Electron beam lithography / Reactive ion etching |
| 資料番号 | PN2009-59,OPE2009-197,LQE2009-179 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
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| 開催期間 | 2010/1/21(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | アルミニウム表面プラズモンカラーフィルタ(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Aluminum surface plasmon color filter |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 表面プラズモン / Surface plasmon |
| キーワード(2)（和/英） | プラズマ周波数 / Plasma frequency |
| キーワード(3)（和/英） | 電子ビーム描画 / Electron beam lithography |
| キーワード(4)（和/英） | 反応性イオンエッチング / Reactive ion etching |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 池田 直樹 / Naoki Ikeda |
| 第 1 著者 所属（和/英） | (独)物質・材料研究機構 National Institute for Materials Science |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 津谷 大樹 / Daijyu Tsuya |
| 第 2 著者 所属（和/英） | (独)物質・材料研究機構 National Institute for Materials Science |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 杉本 喜正 / Yoshimasa Sugimoto |
| 第 3 著者 所属（和/英） | (独)物質・材料研究機構 National Institute for Materials Science |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 小出 康夫 / Yasuo Koide |
| 第 4 著者 所属（和/英） | (独)物質・材料研究機構 National Institute for Materials Science |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 三浦 篤志 / Atsushi Miura |
| 第 5 著者 所属（和/英） | (株)豊田中央研究所 Toyota central R&D Labs., Inc. |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 井上 大介 / Daisuke Inoue |
| 第 6 著者 所属（和/英） | (株)豊田中央研究所 Toyota central R&D Labs., Inc. |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 野村 壮士 / Tsuyoshi Nomura |
| 第 7 著者 所属（和/英） | (株)豊田中央研究所 Toyota central R&D Labs., Inc. |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 藤川 久喜 / Hisayoshi Fujikawa |
| 第 8 著者 所属（和/英） | (株)豊田中央研究所 Toyota central R&D Labs., Inc. |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 佐藤 和夫 / Kazuo Sato |
| 第 9 著者 所属（和/英） | (株)豊田中央研究所 Toyota central R&D Labs., Inc. |
| 発表年月日 | 2010-01-29 |
| 資料番号 | PN2009-59,OPE2009-197,LQE2009-179 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | 403 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
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