講演名 2009-12-18
平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
小川 憲介, 官 寧, 五井 一宏, 佐久間 健, /, / /,
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抄録(和) ブラッググレーティング導波路を複屈折を生ずることなく形成するための新たな設計方法について説明する.この方法では,導波路コアの上部に薄い溝が形成され,その溝の幅が導波路の幅と同時並行して変調される.差分化した逆散乱アルゴリズムに基づいて,ブラッググレーティング導波路の実効屈折率プロファイルを求め,さらに,上記の新規設計のコア形状を用いて,実効屈折率分布を導波路の幅のプロファイルに変換する.この手順により,平面基板上に形成する非複屈折性ブラッググレーティング導波路を設計することが可能となる.本手法を波長分散補償器の設計に適用する.
抄録(英) New design method is described for synthesis of Bragg grating waveguides without inducing birefringence. In this method, waveguide core has a thin trench formed on its top surface and width of the trench is modulated concurrently with modulation of core width. Effective refractive index profiles in Bragg grating waveguides are obtained by a differential inverse scattering algorithm and converted to waveguide width profiles by using this new core design. This procedure allows design of non-birefringent Bragg grating waveguides on planar substrate. The method is applied to the design of chromatic dispersion compensators.
キーワード(和) 導波路 / ブラッググレーティング / 波長分散補償 / 複屈折 / 逆散乱
キーワード(英) Waveguide / Bragg grating / Chromatic dispersion compensation / Birefringence / Inverse scattering
資料番号 OPE2009-163
発行日

研究会情報
研究会 OPE
開催期間 2009/12/11(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Optoelectronics (OPE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 平面基板上のブラッググレーティング導波路の新たな設計方法(光パッシブコンポネント(フィルタ、コネクタ、MEMS),シリコンフォトニクス,光ファイバ,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) New Design Method of Bragg Grating Waveguide on Planer Substrate
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 導波路 / Waveguide
キーワード(2)(和/英) ブラッググレーティング / Bragg grating
キーワード(3)(和/英) 波長分散補償 / Chromatic dispersion compensation
キーワード(4)(和/英) 複屈折 / Birefringence
キーワード(5)(和/英) 逆散乱 / Inverse scattering
第 1 著者 氏名(和/英) 小川 憲介 / Kensuke Ogawa
第 1 著者 所属(和/英) 株式会社フジクラ光電子技術研究所
Optics and Electronics Laboratory, Fujikura Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 官 寧 / Ning Guan
第 2 著者 所属(和/英) 株式会社フジクラ光電子技術研究所
Optics and Electronics Laboratory, Fujikura Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 五井 一宏 / Kazuhiro Goi
第 3 著者 所属(和/英) 株式会社フジクラ光電子技術研究所
Optics and Electronics Laboratory, Fujikura Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) 佐久間 健 / Ken Sakuma
第 4 著者 所属(和/英) 株式会社フジクラ光電子技術研究所
Optics and Electronics Laboratory, Fujikura Ltd.
第 5 著者 氏名(和/英) / / Yong Tsong Tan
第 5 著者 所属(和/英) 株式会社フジクラ光電子技術研究所
Optics and Electronics Laboratory, Fujikura Ltd.
第 6 著者 氏名(和/英) / / / Ming-Bin Yu
第 6 著者 所属(和/英) /
Institute of Microelectronics
発表年月日 2009-12-18
資料番号 OPE2009-163
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 353
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日