講演名 2010-01-28
直流反応性スパッタリング法を用いたBaAl_2S_4:Eu EL素子の作製(発光型/非発光型ディスプレイ)
渡邉 康裕, 三浦 登, 松本 皓永, 中野 鐐太郎,
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抄録(和) 直流反応性スパッタリング法を用いて、BaAl_2S_4:Eu薄膜の作製を行った。導入ガスとしてArおよびH_2Sからなる混合ガスを使用した。混合ガス中のH_2S流量比率を2%、スパッタリング時の基板温度400℃、熱処理温度790℃の条件の時、最も良質なBaAl_2S_4薄膜が得られた。この薄膜を発光層とし、二重絶縁構造のEL素子を作製した。1kHz正弦波駆動においての輝度は14.44cd/m^2であった。さらに、ZnSバッファ層を挿入すると輝度が向上した。
抄録(英) BaAl_2S_4:Eu thin films were prepared by DC reactive sputtering using Ar;H2S mixture gas. It was found that best condition of flow ratio (H2S/total gas) is 2%. The crystallinity and PL characteristics of BaAl_2S_4:Eu thin films show best under the condition of substrate temperature during the sputtering and annealing temperature are 400℃ and 790℃, respectively. EL devices having double insulating structure were fabricated with these conditions. The maximum luminance was 14.4 cd/m2 under the 1 kHz sinusoidal voltage. The maximum luminance level increased with insert the buffer layers between the phosphor layer and both insulating layers.
キーワード(和) BaAl_2S_4:Eu / 直流反応性スパッタリング / EL
キーワード(英) BaAl_2S_4:Eu / DC reactive sputtering / Electroluminescence
資料番号 EID2009-57
発行日

研究会情報
研究会 EID
開催期間 2010/1/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electronic Information Displays (EID)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 直流反応性スパッタリング法を用いたBaAl_2S_4:Eu EL素子の作製(発光型/非発光型ディスプレイ)
サブタイトル(和)
タイトル(英) BaAl_2S_4:Eu EL Devices Prepared by DC-Reactive-Sputtering
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) BaAl_2S_4:Eu / BaAl_2S_4:Eu
キーワード(2)(和/英) 直流反応性スパッタリング / DC reactive sputtering
キーワード(3)(和/英) EL / Electroluminescence
第 1 著者 氏名(和/英) 渡邉 康裕 / Yasuhiro WATANABE
第 1 著者 所属(和/英) 明治大学理工学部電子通信工学科
Department of Electronics & Communications, School of Science & Technology, Meiji University
第 2 著者 氏名(和/英) 三浦 登 / Noboru MIURA
第 2 著者 所属(和/英) 明治大学理工学部電子通信工学科
Department of Electronics & Communications, School of Science & Technology, Meiji University
第 3 著者 氏名(和/英) 松本 皓永 / Hironaga MATSUMOTO
第 3 著者 所属(和/英) 明治大学理工学部電子通信工学科
Department of Electronics & Communications, School of Science & Technology, Meiji University
第 4 著者 氏名(和/英) 中野 鐐太郎 / Ryotaro NAKANO
第 4 著者 所属(和/英) 明治大学理工学部電子通信工学科
Department of Electronics & Communications, School of Science & Technology, Meiji University
発表年月日 2010-01-28
資料番号 EID2009-57
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 404
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日