| 講演名 | 2009-12-04 エタノールクラスターイオンビームを用いたシリコン基板の微細加工(シリコン関連材料の作製と評価) 向井 寛, 龍頭 啓充, 竹内 光明, 高岡 義寛, |
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| 抄録(和) | シリコン基板の微細加工の可能性を調べるために、フォトレジストおよびフォトレジストを塗付しテストパターンを露光したシリコン基板にエタノールクラスターイオンビームを照射して、その照射効果について調べた。エタノールクラスターイオンビーム照射によるシリコン基板とフォトレジストのスパッタリング深さは同程度であることが分かった。また、フォトレジストを塗付し、テストパターンを露光したシリコン基板にエタノールクラスターイオンビームを照射すると、テストパターンの形状を維持してエッチングされることがわかった。 |
| 抄録(英) | Irradiation effect of an ethanol cluster ion beam on a photoresist masked silicon surface was investigated to examine the possibility of the application of an ethanol cluster ion beam. The sputtered depth in silicon induced by the ethanol cluster ion beam was approximately the same as that in photoresist. The test pattern of photoresist mask was successfully reproduced on the silicon substrate irradiated with an ethanol cluster ion beams to a silicon processing. |
| キーワード(和) | クラスターイオンビーム / 表面加工 / スパッタリング / エタノール |
| キーワード(英) | Cluster ion beam / Surface modification / Sputtering / Ethanol |
| 資料番号 | SDM2009-158 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2009/11/27(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | エタノールクラスターイオンビームを用いたシリコン基板の微細加工(シリコン関連材料の作製と評価) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Si substrate processing by ethanol cluster ion beam technique |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | クラスターイオンビーム / Cluster ion beam |
| キーワード(2)（和/英） | 表面加工 / Surface modification |
| キーワード(3)（和/英） | スパッタリング / Sputtering |
| キーワード(4)（和/英） | エタノール / Ethanol |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 向井 寛 / Hiroshi MUKAI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター Photonics and Electronics Science and Engineering Center, Kyoto University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 龍頭 啓充 / Hiromichi RYUTO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター Photonics and Electronics Science and Engineering Center, Kyoto University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 竹内 光明 / Mitsuaki TAKEUCHI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター Photonics and Electronics Science and Engineering Center, Kyoto University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 高岡 義寛 / Gikan TAKAOKA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 京都大学工学研究科附属光・電子理工学教育研究センター Photonics and Electronics Science and Engineering Center, Kyoto University |
| 発表年月日 | 2009-12-04 |
| 資料番号 | SDM2009-158 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | 321 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 3 |
| 発行日 | |