| 講演名 | 2010-05-14 Ga2O3酸素センサの作製と評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) 茅野 真也, 山口 直哉, 以西 雅章, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 近年、環境問題に対する関心の高まりから、排気ガスの制御に酸素ガスセンサが注目されている。酸化ガリウムは900℃以上で酸素検知特性を持つことから、高温用酸素ガスセンサとして注目されている。そこで本研究ではβ-Ga_2O_3薄膜をRFマグネトロンスパッタリング法で生成し、Ar:O_2流量比とRFパワー、膜厚の結晶特性、酸素センサ特性への影響について調べた。その結果、作成した薄膜の結晶特性は、Ar:O_2流量比5:1で最も良くなり、酸素感度は膜厚に依存するという結果が得られた。 |
| 抄録(英) | Recently, from a point of environmental problems, oxygen gas sensors attract attention of controlling the exhaust gas. The Ga_2O_3 has an oxygen detection characteristic at more than 900°C, so this material attracts much attention as an oxygen sensor at high temperature. The β-Ga_2O_3 films were prepared by the RF magnetron sputtering method. The effect of Ar:O_2 flow ratio, RF power, and thickness of films on the crystal and oxygen sensing properties were investigated. As a result, the superior crystal properties were obtained at the Ar:O_2 flow ratio of 5:1. It was found that the oxygen sensitivity depended on a film thickness. |
| キーワード(和) | 酸化ガリウム / 金属酸化物 / マグネトロンスパッタリング法 / 急速アニール / 酸素センサ |
| キーワード(英) | Gallium oxide / Metal oxides / Magnetron sputtering method / Rapid thermal annealing(RTA) / Oxygen sensor |
| 資料番号 | ED2010-27,CPM2010-17,SDM2010-27 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
|---|---|
| 開催期間 | 2010/5/6(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Ga2O3酸素センサの作製と評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation and evaluation of Ga2O3 oxygen sensors |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 酸化ガリウム / Gallium oxide |
| キーワード(2)（和/英） | 金属酸化物 / Metal oxides |
| キーワード(3)（和/英） | マグネトロンスパッタリング法 / Magnetron sputtering method |
| キーワード(4)（和/英） | 急速アニール / Rapid thermal annealing(RTA) |
| キーワード(5)（和/英） | 酸素センサ / Oxygen sensor |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 茅野 真也 / Shinya KAYANO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学研究科 Graduate School of Engineering, Shizuoka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 山口 直哉 / Naoya YAMAGUCHI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部 Faculty of Engineering, Shizuoka University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 以西 雅章 / Masaaki ISAI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部 Faculty of Engineering, Shizuoka University |
| 発表年月日 | 2010-05-14 |
| 資料番号 | ED2010-27,CPM2010-17,SDM2010-27 |
| 巻番号（vol） | vol.110 |
| 号番号（no） | 29 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |