| 講演名 | 2010-01-13 4段コプレーナ共振器フィルタを用いたスプリアス抑制の広帯域化(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般) 長福 隆広, 出口 博之, 辻 幹男, 藤田 容孝, |
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| 抄録(和) | 本稿では,遮蔽導体の無い開放型においてスプリアス抑制が可能なコプレーナ共振器の特長を活かし,スプリアス抑制の広帯域化の観点から1/4波長コプレーナ共振器をオフセットに配置することで比較的小型のまま多段化を可能とする帯域通過フィルタの構造を提案している.また,本フィルタは共振器の空間配置による奇数次スプリアス抑制法を適用する事が可能な構造を有していることから,7次の高次共振まで抑圧する4段帯域通過フィルタの設計を行なった.HFSSによる数値解析を行うことで,本稿で提案するスプリアス抑制を広帯域化するためのフィルタ構造の有効性を検証している. |
| 抄録(英) | This paper proposes a structure of bandpass filter in which quarter-waveguide resonators are arranged in the offset, from the viewpoint of wider bandwidth of spurious suppression. This structure is suitable for making a multistep-resonator filter compactly. Furthermore, since an appropriate arrangement of resonators makes it possible to suppress spurious response of one of odd-order resonances, we design a four-step resonator filter which can suppress spurious responses up to the 7th-order resonance. The effectiveness of the present filter with wideband spurious suppression is proved by the calculated results. |
| キーワード(和) | 平面回路フィルタ / 帯域通過フィルタ / コプレーナ導波路 / スプリアス応答 |
| キーワード(英) | Planar-circuit filter / Bandpass filter / Coplanar-waveguide / Spurious-response |
| 資料番号 | ED2009-177,MW2009-160 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 2010/1/6(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 4段コプレーナ共振器フィルタを用いたスプリアス抑制の広帯域化(化合物半導体デバイス及び超高周波デバイス/一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Wideband spurious-response suppression using 4-pole coplanar-waveguide resonator filters |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 平面回路フィルタ / Planar-circuit filter |
| キーワード(2)（和/英） | 帯域通過フィルタ / Bandpass filter |
| キーワード(3)（和/英） | コプレーナ導波路 / Coplanar-waveguide |
| キーワード(4)（和/英） | スプリアス応答 / Spurious-response |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 長福 隆広 / Takahiro NAGAFUKU |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 同志社大学理工学部 Faculty of Science and Engineering, Doshisha University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 出口 博之 / Hiroyuki DEGUCHI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 同志社大学理工学部 Faculty of Science and Engineering, Doshisha University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 辻 幹男 / Mikio TSUJI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 同志社大学理工学部 Faculty of Science and Engineering, Doshisha University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 藤田 容孝 / Hirotaka FUJITA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | シャープ株式会社 Sharp Corporation |
| 発表年月日 | 2010-01-13 |
| 資料番号 | ED2009-177,MW2009-160 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | 360 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
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