講演名 2010-07-12
光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成(フレキシブルエレクトロニクス)
室山 雅和, 横倉 精二, 斉藤 航, 宮川 大地, 田中 邦明, 臼井 博明,
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抄録(和) 重合性モノマーと光重合開始剤の共蒸着により形成した感光性薄膜に紫外光を照射し,有機溶媒で現像することによってカルバゾール高分子薄膜のパターンを形成した.同様にして,モノマーと光重合開始剤の混合溶液をスピンコートし,溶媒が乾燥して膜の結晶化が始まる前に紫外露光することによっても高分子薄膜のパターンが形成された.パターン形成性や膜表面の形態は,蒸着法が優れた結果を与えた.このようにして形成したカルバゾール高分子膜パターンを利用して,有機EL素子を形成した.パターン形成のプロセスは発光特性に大きな損傷を与えないことが見出された.
抄録(英) Photosensitive thin films were prepared by codeposition of polymerizable monomer and photoinitiator, which was patterned by UV irradiation followed by developing in an organic solvent. Formation of thin film patterns of carbazole polymer was achieved by this method. Similarly, photosensitive films were prepared by spin-coating a mixed solution of carbazole acrylate monomer and photoinitiator. Pattern formation was achieved when UV irradiation was made before the spin-coated film is completely dried to form polycrystalline thin films. However, the vapor-deposited films were superior in pattern formation and surface morphology. This technique was applied for the preparation of phosphorescent layer of an organic light emitting diode(OLED). It was found that the patterning process does not cause a harmful damage to the device characteristics, but rather improve the characteristics due to the polymerization.
キーワード(和) 光パターン形成 / 感光性薄膜 / 有機EL / カルバゾール / 蒸着重合 / スピンコート
キーワード(英) photopatterning / photosensitive film / OLED / carbazole / vapor deposition / spin-coating
資料番号 EID2010-2,OME2010-37
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2010/7/5(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 光反応性有機薄膜を用いた有機EL素子形成(フレキシブルエレクトロニクス)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Fabrication of Organic Light Emitting Diodes by Use of Photosensitive Films
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 光パターン形成 / photopatterning
キーワード(2)(和/英) 感光性薄膜 / photosensitive film
キーワード(3)(和/英) 有機EL / OLED
キーワード(4)(和/英) カルバゾール / carbazole
キーワード(5)(和/英) 蒸着重合 / vapor deposition
キーワード(6)(和/英) スピンコート / spin-coating
第 1 著者 氏名(和/英) 室山 雅和 / Masakazu MUROYAMA
第 1 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
Tokyo University of Agriculture and Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 横倉 精二 / Seiji YOKOKURA
第 2 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
Tokyo University of Agriculture and Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 斉藤 航 / Wataru SAITO
第 3 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
Tokyo University of Agriculture and Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 宮川 大地 / Daichi MIYAGAWA
第 4 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
Tokyo University of Agriculture and Technology
第 5 著者 氏名(和/英) 田中 邦明 / Kuniaki TANAKA
第 5 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
Tokyo University of Agriculture and Technology
第 6 著者 氏名(和/英) 臼井 博明 / Hiroaki USUI
第 6 著者 所属(和/英) 東京農工大学大学院工学研究院応用化学部門
Tokyo University of Agriculture and Technology
発表年月日 2010-07-12
資料番号 EID2010-2,OME2010-37
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 124
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日