講演名 2010-06-25
ハンマリング加振機構による電気接点の劣化現象 : 摺動機構のモデリング(1)(材料デバイスサマーミーティング)
和田 真一, 越田 圭治, 園田 健人, ノロブリン サインダー, 小田部 正能, 久保田 洋彰, 澤 孝一郎,
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抄録(和) 著者らは,摺動接触機構において,摺動力2.0N/pinおよび0.3N/pin,摺動振幅±5.0μmおよび±10.0μmの条件で,それぞれ約2500万回の実験を行い,抵抗値の増加を測定した,また,変動初期における抵抗値の立ち上がりの傾向をモデル化の可能性を示唆できた.平均化(平滑化)したデータにおいてはロジスティック・関数に時間変動成分を付加した拡張モデルが適用できることが示唆された.接触抵抗の時系列変動における接点の相対変位に与えるパラメータ(摺動振幅・摺動力)の検討をした.そして,この接触抵抗値の変動には単純化した変動モデルが適用できる可能性が示唆された.
抄録(英) Authors measured increasing resistances on electrical contacts by means of sliding contact mechanism respectively on the conditions that (1) sliding forces were 2.0N/pin or 0.3N/pin and (2) sliding amplitudes were ±5.0μm or ±10.0μm under the operation number of about 25milions. It was suggested that there was potentiality to make a model of the tendencies of contact variations in the primary stages in the above cases. It was suggested that there was the expanded model with logistic function and periodical components applied to averaged data. It was studied that there were the parameters (sliding force and sliding amplitude) which caused the relative displacements to electrical contacts about the time-sequential fluctuations of the contact resistances. And it was suggested that the simplified fluctuation model would be applied to the fluctuation of contact resistance.
キーワード(和) 電気接点 / 微小振動 / 接触抵抗 / 摺動接触機構 / 摺動振幅 / 摺動力 / 変動
キーワード(英) electrical contact / micro-oscillation / contact resistance / sliding contact mechanism / sliding amplitude / sliding force / fluctuation
資料番号 EMD2010-15,CPM2010-29,OME2010-34
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2010/6/18(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) ハンマリング加振機構による電気接点の劣化現象 : 摺動機構のモデリング(1)(材料デバイスサマーミーティング)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Degradation phenomenon of electrical contacts by hammering oscillating mechanism : Modeling of the sliding mechanism (1)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 電気接点 / electrical contact
キーワード(2)(和/英) 微小振動 / micro-oscillation
キーワード(3)(和/英) 接触抵抗 / contact resistance
キーワード(4)(和/英) 摺動接触機構 / sliding contact mechanism
キーワード(5)(和/英) 摺動振幅 / sliding amplitude
キーワード(6)(和/英) 摺動力 / sliding force
キーワード(7)(和/英) 変動 / fluctuation
第 1 著者 氏名(和/英) 和田 真一 / Shin-ichi WADA
第 1 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 越田 圭治 / Keiji KOSHIDA
第 2 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 園田 健人 / Taketo SONODA
第 3 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) ノロブリン サインダー / Saindaa NOROVLIN
第 4 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 5 著者 氏名(和/英) 小田部 正能 / Masayoshi KOTABE
第 5 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 6 著者 氏名(和/英) 久保田 洋彰 / Hiroaki KUBOTA
第 6 著者 所属(和/英) TMCシステム(株)
TMC System Co., Ltd.
第 7 著者 氏名(和/英) 澤 孝一郎 / Koichiro SAWA
第 7 著者 所属(和/英) 慶応義塾大学:日本工業大学
Keio University:Nippon Institute of Technology
発表年月日 2010-06-25
資料番号 EMD2010-15,CPM2010-29,OME2010-34
巻番号(vol) vol.110
号番号(no) 100
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日