講演名 2009-11-13
1Tbit/in^2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響(ハードディスクドライブ及び一般)
有明 順, 近藤 祐治, 石尾 俊二, 本多 直樹,
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抄録(和) 1Tbi/in^2級のビットパターン媒体(BPM)作製のための作製プロセスや媒体設計上の課題抽出のため,微細磁性ドットアレイを電子線露光とArイオンミリングを用いて作製し,いくつかのドット形状に関する解析を行なった.ドットサイズの解析では,サイズのばらつきが標準偏差σで1nm程度存在することが明らかとなり,シミュレーション結果と合わせ5kOe程度の異方性磁界の分散に相当することが分かった.ドットピッチの解析では,電子線露光の走査方向,それと直交する方向ともばらつきが5%程度存在した.ドットピッチのばらつきはスイッチング磁界分散(SFD)と比例関係にあるので,これを低減させる必要があることが分かった.また,電子線露光の走査方向の微小のうねりも標準偏差3σで2.6nm程度あり,ドットサイズやそのばらつきを考慮すると,隣接ドットとの静磁気結合が影響し合う値であることが分かった.これらのプロセスに関するばらつきはいずれも磁気特性や記録特性に大きな影響を及ぼす可能性があり,超1Tbit/in^2のBPMを作製するうえでは,安定性や精度の非常に高いプロセスが要求される.
抄録(英) Fine magnetic dot arrays with an areal density around 1Tbit/in^2 were fabricated for obtaining fabrication process issues and design parameter of bit patterned media (BPM). In dot size analysis, a size distribution of about 1nm of standard deviation existed. This distribution corresponds to about 5kOe in H_k distribution in BPM from a simulated result. In dot period analysis, a dispersion value of about 5% was found in both a scanning direction of EB exposure and a direction perpendicular to the scanning direction. Dot period dispersion must be reduced because it is proportional to switching field distribution (SFD) from a simulated result. Undulation analysis along an EB scanning direction in fine magnetic dots revealed that magnetostatic interaction can be occurred between dots in cross track direction. A very stable and accurate process is required for BPM fabrication at 1Tbit/in^2 and beyond.
キーワード(和) ビットパターン媒体 / 微細磁性ドットアレイ / 電子線リソグラフィ / ドット形状評価 / スイッチング磁界分散
キーワード(英) bit patterned media / fine magnetic dot array / Electron beam lithography / dot shape analysis / switching field distribution
資料番号 MR2009-30
発行日

研究会情報
研究会 MR
開催期間 2009/11/6(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Magnetic Recording (MR)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 1Tbit/in^2級微細磁性ドットアレイの形状が磁気特性、記録特性に及ぼす影響(ハードディスクドライブ及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Effect of magnetic dot shape in BPM on magnetic and R/W performance with 1Tbit/in^2 regime
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ビットパターン媒体 / bit patterned media
キーワード(2)(和/英) 微細磁性ドットアレイ / fine magnetic dot array
キーワード(3)(和/英) 電子線リソグラフィ / Electron beam lithography
キーワード(4)(和/英) ドット形状評価 / dot shape analysis
キーワード(5)(和/英) スイッチング磁界分散 / switching field distribution
第 1 著者 氏名(和/英) 有明 順 / Jun ARIAKE
第 1 著者 所属(和/英) 秋田県産業技術総合研究センター
AIT, Akita Prefectural R & D Center
第 2 著者 氏名(和/英) 近藤 祐治 / Yuji KONDO
第 2 著者 所属(和/英) 秋田県産業技術総合研究センター
AIT, Akita Prefectural R & D Center
第 3 著者 氏名(和/英) 石尾 俊二 / Shunji ISHIO
第 3 著者 所属(和/英) 秋田大学
Akita University
第 4 著者 氏名(和/英) 本多 直樹 / Naoki HONDA
第 4 著者 所属(和/英) 東北工業大学
Tohoku Institute of technology
発表年月日 2009-11-13
資料番号 MR2009-30
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 282
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日