| 講演名 | 2009-10-29 超低非線形性伝送路用HAFの検討 下高原 巌, 熊野 尚美, 味村 裕, 杉崎 隆一, 八木 健, |
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| 抄録(和) | 非線形性を通常SMF(ITU-T G.652準拠)の半分以下に低減しつつ標準SMFと互換性の高い光ファイバとして,実効コア断面積(Aeff)を拡大したHAF(Hole Assisted Fiber)を開発した.シミュレーション結果を基にファイバ試作を実施し,波長1550nm帯においてシングルモード動作を維持しながら,180μm^2程度のAeffを達成した.コアの比屈折率差Δは0.1%と通常のSMFと比較してGeO_2濃度は1/3程度であり,非線形性定数は1.5x10^<-10>W^<-1>と見積もられる.この値は標準SMFの40%程度に相当する非常に低い非線形性である.また,通常の融着で接続可能であり,0.20dB程度の低い損失で同種融着接続が可能であることも確認した. |
| 抄録(英) | Hole assisted fiber (HAF) with enlarged effective core area (Aeff) and less than half nonlinearity of standard SMFs (ITU-T G.652 compliant) is investigated as a fiber compatible with standard SMFs. Fabricated fiber based on simulation results has Aeff of 180μm^2, reduced n2 and larger dispersion coefficient, simultaneously while ensuring single mode transmission at 1550nm. The core refractive index difference (Δ) of fabricated fiber is reduced to 0.1%. Therefore, GeO_2 concentration is 1/3 of that of standard SMFs and nonlinear coefficient n2/ Aeff is estimated to a low value of 1.5x10^<-10>W^<-1>. This nonlinearity corresponds to about 40% of that of standard SMFs. Moreover, it is confirmed that these HAFs can be spliced by commercially available splicer and low splice losses of about 0.20dB at 1550nm on average with fabricated HAFs are obtained. |
| キーワード(和) | 非線形性 / Aeff / Hole Assisted Fiber / カットオフ波長 / 曲げ損失 |
| キーワード(英) | Nonlinearity / Aeff / Hole Assisted Fiber / Cutoff wavelength / Bending loss |
| 資料番号 | OFT2009-39 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | OFT |
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| 開催期間 | 2009/10/22(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Optical Fiber Technology (OFT) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 超低非線形性伝送路用HAFの検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Ultra Low Nonlinear Telecom Fibre by Hole Assisted Technique |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 非線形性 / Nonlinearity |
| キーワード(2)（和/英） | Aeff / Aeff |
| キーワード(3)（和/英） | Hole Assisted Fiber / Hole Assisted Fiber |
| キーワード(4)（和/英） | カットオフ波長 / Cutoff wavelength |
| キーワード(5)（和/英） | 曲げ損失 / Bending loss |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 下高原 巌 / Iwao SHIMOTAKAHARA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所 Fitel Photonics Laboratory, Furukawa Electric Co., Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 熊野 尚美 / Naomi KUMANO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所 Fitel Photonics Laboratory, Furukawa Electric Co., Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 味村 裕 / Yu MIMURA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所 Fitel Photonics Laboratory, Furukawa Electric Co., Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 杉崎 隆一 / Ryuichi SUGIZAKI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所 Fitel Photonics Laboratory, Furukawa Electric Co., Ltd. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 八木 健 / Takeshi YAGI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 古河電気工業(株)ファイテルフォトニクス研究所 Fitel Photonics Laboratory, Furukawa Electric Co., Ltd. |
| 発表年月日 | 2009-10-29 |
| 資料番号 | OFT2009-39 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | 255 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |