講演名 2009-09-30
直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(112^^-0)配向ZnO圧電膜の大面積成膜
川本 貴之, 柳谷 隆彦, 松川 真美, 渡辺 好章, 森 嘉一, 佐々木 昌, 大場 正利,
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抄録(和) これまで,円形エロージョンを有したRFマグネトロンスパッ装置を用いた(112^^-0)ZnO圧電膜の作製の報告がなされている.しかしこの場合は基板上の微小な領域でしか十分に配向せず,またc軸がウェハ面内で放射状に配向するといった課題があった.今回,我々は直線エロージョンをもったスパッタ陰極を用いることで,基板の広範囲で良好な結晶性を有し,かつ圧電軸が同一方向に配向した(112^^-0)配向ZnO圧電膜の作製に成功したため,その結果を報告する.
抄録(英) In previous studies, fabrication of (112^^-0) textured ZnO piezoelectric films have been reported by using RF magnetron sputtering with circular cathode. However, in these studies, there have been two problems related to the practical application. The problems are that (i) highly oriented films can be obtained only in a small area, and (ii) crystallites c-axis in the films was oriented radially in the substrate plane. In this study, we make an attempt to realize the in-plane unidirectional orientation in a large area by using sputtering cathode with linear erosion.
キーワード(和) (112^^-0)配向ZnO膜 / RFマグネトロンスパッタ法 / 円形エロージョン / 面内放射状配向 / 直線エロージョン / 面内一方向配向 / 大面積成膜
キーワード(英) (112^^-0) textured ZnO film / RF magnetron sputtering method / Circular erosion / Radial orientation / Linear erosion / Unidirectional orientation / Large-area fabrication
資料番号 US2009-49
発行日

研究会情報
研究会 US
開催期間 2009/9/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Ultrasonics (US)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(112^^-0)配向ZnO圧電膜の大面積成膜
サブタイトル(和)
タイトル(英) Large-area fabrication of (112^^-0) textured ZnO piezoelectric films using magnetron sputtering with linear erosion
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) (112^^-0)配向ZnO膜 / (112^^-0) textured ZnO film
キーワード(2)(和/英) RFマグネトロンスパッタ法 / RF magnetron sputtering method
キーワード(3)(和/英) 円形エロージョン / Circular erosion
キーワード(4)(和/英) 面内放射状配向 / Radial orientation
キーワード(5)(和/英) 直線エロージョン / Linear erosion
キーワード(6)(和/英) 面内一方向配向 / Unidirectional orientation
キーワード(7)(和/英) 大面積成膜 / Large-area fabrication
第 1 著者 氏名(和/英) 川本 貴之 / Takayuki KAWAMOTO
第 1 著者 所属(和/英) 同志社大学生命医科学研究科:オムロン株式会社技術本部
Faculty of Engineering, Doshisha University:OMRON Corporation CORE TECHNOLOGY CENTER
第 2 著者 氏名(和/英) 柳谷 隆彦 / Takahiko YANAGITANI
第 2 著者 所属(和/英) 名古屋工業大学工学研究科
Nagoya Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 松川 真美 / Mami MATSUKAWA
第 3 著者 所属(和/英) 同志社大学生命医科学研究科
Faculty of Engineering, Doshisha University
第 4 著者 氏名(和/英) 渡辺 好章 / Yoshiaki WATANABE
第 4 著者 所属(和/英) 同志社大学生命医科学研究科
Faculty of Engineering, Doshisha University
第 5 著者 氏名(和/英) 森 嘉一 / Yoshikazu MORI
第 5 著者 所属(和/英) オムロン株式会社技術本部
OMRON Corporation CORE TECHNOLOGY CENTER
第 6 著者 氏名(和/英) 佐々木 昌 / Syo SASAKI
第 6 著者 所属(和/英) オムロン株式会社技術本部
OMRON Corporation CORE TECHNOLOGY CENTER
第 7 著者 氏名(和/英) 大場 正利 / Masatoshi Oba
第 7 著者 所属(和/英) オムロン株式会社技術本部
OMRON Corporation CORE TECHNOLOGY CENTER
発表年月日 2009-09-30
資料番号 US2009-49
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 213
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日