講演名 2009-08-21
スパッタリング法によるErドープTaO_x薄膜の作製とその発光特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
三浦 健太, 狩野 一総, 伏木 厳穣, シン マヤンク, 花泉 修,
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抄録(和) rfスパッタリングによりErドープTaO_x薄膜を成膜し,アニール後,波長550nm及び670nm付近の2つの発光ピークが発現することを確認した.他の手法で作製されたErドープTaO_xと同様,波長550nm付近の発光ピークが優勢であり,肉眼では緑色発光として観察することができた.更に,Er濃度0.96mol%程度,アニール温度900℃,アニール時間20分とした場合が,波長550nm付近のピーク強度が最大となることがわかった.
抄録(英) Er-doped TaO_x films were prepared by using rf magnetron sputtering. Visible photoluminescence was obtained from the films after annealing under excitation with a He-Cd laser (λ=325nm). Two peaks having wavelengths around 550nm and 670nm were observed from the films annealed at 800-1100℃. The strongest intensity of the 550-nm (green) peak was obtained from the film with 0.96mol% of Er concentration after annealing at 900℃ for 20min. Such sputtered films which emit visible light can be useful as high-index materials for novel active devices using autocloned photonic crystals.
キーワード(和) TaO_x / Er / スパッタリング / アニール / 可視発光
キーワード(英) TaO_x / Er / Sputtering / Annealing / Visible-light Emission
資料番号 EMD2009-53,CPM2009-77,OPE2009-101,LQE2009-60
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2009/8/13(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) スパッタリング法によるErドープTaO_x薄膜の作製とその発光特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Light-emitting properties of Er-doped TaO_x thin films fabricated by using rf sputtering
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) TaO_x / TaO_x
キーワード(2)(和/英) Er / Er
キーワード(3)(和/英) スパッタリング / Sputtering
キーワード(4)(和/英) アニール / Annealing
キーワード(5)(和/英) 可視発光 / Visible-light Emission
第 1 著者 氏名(和/英) 三浦 健太 / Kenta MIURA
第 1 著者 所属(和/英) 群馬大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Gunma University
第 2 著者 氏名(和/英) 狩野 一総 / Kazusa KANO
第 2 著者 所属(和/英) 群馬大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Gunma University
第 3 著者 氏名(和/英) 伏木 厳穣 / Genjyo FUSEGI
第 3 著者 所属(和/英) 群馬大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Gunma University
第 4 著者 氏名(和/英) シン マヤンク / Mayank SINGH
第 4 著者 所属(和/英) 群馬大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Gunma University
第 5 著者 氏名(和/英) 花泉 修 / Osamu HANAIZUMI
第 5 著者 所属(和/英) 群馬大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Gunma University
発表年月日 2009-08-21
資料番号 EMD2009-53,CPM2009-77,OPE2009-101,LQE2009-60
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 176
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日