講演名 2009-07-23
内部光電子放出法を用いたAlq_3と陰極界面の電子注入障壁高さの評価(有機薄膜・複合膜とデバイス応用,一般)
高石 真也, 伊東 栄次,
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抄録(和) 本研究ではITO/TiO_2/IL/Alq_3/陰極構造の"electron-only device"を作成して、内部光電子放出法を用いて、Alq_3/陰極界面の電子注入障壁の評価を行った。陰極をMgAg、Al、Ag、Auとしたときの電子注入障壁高さはそれぞれ0.86、1.O5、1.3、1.55eVと見積もられた。この障壁高さと電極材料の仕事関数、電気陰性度との関係は線形成を示し、特に電気陰性度の関係でスロープパラメーターは0.6となった。これはAlq_3/陰極界面でのギャップ内準位によるものと考えられる。
抄録(英) We have investigated electron injection barrier height at aluminum tris (8-hydroxy-quinoline) (Alq_3)/cathode interfaces by internal photoemission (IPE) measurement. A three layered device consisting of ITO/TiO_2/IL/Alq_3/cathode structure was used to fabricate the "electron-only device". The measured barrier heights were 0.86, 1.05, 1.3 and 1.55eV for MgAg, Al, Ag and Au electrodes. Barrier height showed linear relationship with work-function and electro-negativity of cathode materials. The slope parameter of 0.6 with electro-negativity was attributed to the interfacial charge transfer through the mid gap electronic states at the cathode/Alq_3 interface.
キーワード(和) 内部光電子放出法 / 障壁高さ / Alq_3 / electron-only device
キーワード(英) internal photoemission / barrier height / Alq_3 / electron only device
資料番号 OME2009-32
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2009/7/16(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 内部光電子放出法を用いたAlq_3と陰極界面の電子注入障壁高さの評価(有機薄膜・複合膜とデバイス応用,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Estimation of Electron Injection Barrier Height at Alq_3/Cathode Interface by Internal Photoemission Spectroscopy
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 内部光電子放出法 / internal photoemission
キーワード(2)(和/英) 障壁高さ / barrier height
キーワード(3)(和/英) Alq_3 / Alq_3
キーワード(4)(和/英) electron-only device / electron only device
第 1 著者 氏名(和/英) 高石 真也 / Shinya Takaishi
第 1 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Shinshu University, Faculty of Engineering
第 2 著者 氏名(和/英) 伊東 栄次 / Eiji Itoh
第 2 著者 所属(和/英) 信州大学工学部
Shinshu University, Faculty of Engineering
発表年月日 2009-07-23
資料番号 OME2009-32
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 147
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日