講演名 | 2009-06-19 BCB埋め込み型リッジ導波路構造を有する1.3μm波長帯AlGaInAs/InP DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般,材料デバイスサマーミーティング) 八木 英樹, 大西 裕, 辻 幸洋, 市川 弘之, 吉永 弘幸, 野間口 俊夫, 平塚 健二, 上坂 勝己, |
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抄録(和) | 10Gbit/sを超える高速直接変調を目的として、BCB(ベンゾシクロブテン)埋め込み型リッジ導波路構造を有する1.3μm波長帯AlGaInAs/InP分布帰還(DFB)レーザを作製した。作製したレーザにおいて、20GHz以上の良好な回路帯域が得られ、BCB埋め込み構造による低容量化の効果を確認した。動作温度25℃では消光比6dB、26Gbit/s直接変調において、光出力波形の明瞭なアイ開口を観測し、さらに、消光比5dB、14Gbit/s直接変調では温度85℃までの無温調動作を達成した。以上の結果から、BCBを用いた平坦化プロセスによるリッジ導波路型レーザが、10Gbit/s超の高速直接変調をターゲットとした光源として、有望であることを明らかにした。 |
抄録(英) | 1.3μm AlGaInAs/InP distributed feedback (DFB) lasers with the ridge-waveguide structure buried by the benzocyclobutene (BCB) polymer were fabricated. The laser showed the wide electrical bandwidth of more than 20GHz owing to the low parasitic capacitance. A clear eye-opening was observed with the extinction ratio of 6dB in 26Gbit/s direct modulation at measurement temperature of 25℃. Furthermore, uncooled 14Gbit/s direct modulation with the extinction ratio of 5dB was also achieved up to the measurement temperature of 85℃. These results indicate that this device is very promising for the realization of transmitters with high-speed direct modulation of more than 10Gbitis. |
キーワード(和) | BCB平坦化プロセス / AlGaInAs/InP / リッジ導波路構造 / DFBレーザ |
キーワード(英) | BCB planarization process / AlGaInAs/InP / Ridge-waveguide structure / DFB laser |
資料番号 | OPE2009-27,LQE2009-30 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | LQE |
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開催期間 | 2009/6/12(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | BCB埋め込み型リッジ導波路構造を有する1.3μm波長帯AlGaInAs/InP DFBレーザ(量子効果デバイス(光信号処理,LD,光増幅,変調等)と集積化技術,一般,材料デバイスサマーミーティング) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | 1.3μm AlGaInAs/InP DFB Lasers with Ridge-Waveguide Structure Buried by Benzocyclobutene Polymer |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | BCB平坦化プロセス / BCB planarization process |
キーワード(2)(和/英) | AlGaInAs/InP / AlGaInAs/InP |
キーワード(3)(和/英) | リッジ導波路構造 / Ridge-waveguide structure |
キーワード(4)(和/英) | DFBレーザ / DFB laser |
第 1 著者 氏名(和/英) | 八木 英樹 / Hideki YAGI |
第 1 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 大西 裕 / Yutaka ONISHI |
第 2 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 辻 幸洋 / Yukihiro TSUJI |
第 3 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 市川 弘之 / Hiroyuki ICHIKAWA |
第 4 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
第 5 著者 氏名(和/英) | 吉永 弘幸 / Hiroyuki YOSHINAGA |
第 5 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
第 6 著者 氏名(和/英) | 野間口 俊夫 / Toshio NOMAGUCHI |
第 6 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
第 7 著者 氏名(和/英) | 平塚 健二 / Kenji HIRATSUKA |
第 7 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
第 8 著者 氏名(和/英) | 上坂 勝己 / Katsumi UESAKA |
第 8 著者 所属(和/英) | 住友電気工業(株)伝送デバイス研究所 Transmission Devices R & D Laboratories, Sumitomo Electric Industries, LTD. |
発表年月日 | 2009-06-19 |
資料番号 | OPE2009-27,LQE2009-30 |
巻番号(vol) | vol.109 |
号番号(no) | 93 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |