| 講演名 | 2009-06-19 AFM探針スクラッチナノ加工による強磁性パターン薄膜の狭窄化(材料デバイスサマーミーティング) 菅沼 秀教, チャン キョンミン, 山田 努, 竹村 泰司, |
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| 抄録(和) | 本研究は、原子間力顕微鏡(AFM:atomic force microscope)によるダイレクト・スクラッチ加工技術を用いて、強磁性細線に狭窄化を施すことによってナノ接合部を作製し、特異な電流電圧特性や磁気抵抗効果を観測することを目的とした。ここでは、NiFe薄膜に対するAFMスクラッチリソグラフィを、カンチレバーの加重、走査速度、走査回数を変化させて行い、加工具合がそれぞれのパラメータにどのように依存しているか観測した。そして、実際にAFMスクラッチ加工を利用してNiFeパターン細線に狭窄化を施したところ、接合幅139nm、断面積3.0×10^2nm^2のナノ接合部の作製に成功した。 |
| 抄録(英) | The purpose of this study is to fabricate nano-contacts on ferromagnetic patterned thin film by nanolithography technique using atomic force microscope (AFM) and to observe attractive current-voltage and magnetoresistance characteristics. Direct scratch lithography was performed on NiFe thin films using AFM cantilever with various parameters of cantilever force, speed and count of scans. The nano-contact of 139nm width and 3.0×10^2nm^2 cross sectional area was successfully fabricated. |
| キーワード(和) | Atomic force microscope / ferromagnetic thin film / nanolithography / nano-junction |
| キーワード(英) | Atomic force microscope / ferromagnetic thin film / nanolithography / nano-junction |
| 資料番号 | EMD2009-15,CPM2009-27,OME2009-22 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 2009/6/12(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | AFM探針スクラッチナノ加工による強磁性パターン薄膜の狭窄化(材料デバイスサマーミーティング) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Constriction of Ferromagnetic Patterned Thin Film by Nano Scratching using AFM cantilever |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Atomic force microscope / Atomic force microscope |
| キーワード(2)（和/英） | ferromagnetic thin film / ferromagnetic thin film |
| キーワード(3)（和/英） | nanolithography / nanolithography |
| キーワード(4)（和/英） | nano-junction / nano-junction |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 菅沼 秀教 / Hidenori SUGANUMA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 Yokohama National University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | チャン キョンミン / Kyungmin JANG |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 Yokohama National University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 山田 努 / Tsutomu YAMADA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 Yokohama National University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 竹村 泰司 / Yasushi TAKEMURA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 横浜国立大学 Yokohama National University |
| 発表年月日 | 2009-06-19 |
| 資料番号 | EMD2009-15,CPM2009-27,OME2009-22 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | 91 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |