講演名 2009-05-21
大脳皮質の活性化パターンに基づくソフトウェア分析手法の差異分析 : いろいろなソフトウェア分析手法の効果を客観的に比較評価するには
大木 幹雄, 上原 俊樹, 村瀬 晴喜,
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抄録(和) 本稿では,普及が進む光トポグラフィ装置を用いて,分析モデリングの判断基準が思考過程の最適化に与える効果を客観的に計測する研究の一環として,種々の単位頭脳作業と分析モデリング手法の相関分析を行なった結果について述べる.
抄録(英) This paper analyses software analysis tasks from the viewpoint of brain physiology based on the measurement results attained from the experiments using optical topography device and discusses the correlation between analysis techniques and brainwork units.
キーワード(和) ソフトウェア分析手法 / 大脳皮質 / 活性化パターン / 光トポグラフィ
キーワード(英) Software Analysis Technique / cerebral cortex / Activated Pattern / optical topography
資料番号 SS2009-4,KBSE2009-4
発行日

研究会情報
研究会 KBSE
開催期間 2009/5/14(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Knowledge-Based Software Engineering (KBSE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 大脳皮質の活性化パターンに基づくソフトウェア分析手法の差異分析 : いろいろなソフトウェア分析手法の効果を客観的に比較評価するには
サブタイトル(和)
タイトル(英) A Comparing Analysis for Software Analysis Technique based on activated patterns of cerebral cortex
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ソフトウェア分析手法 / Software Analysis Technique
キーワード(2)(和/英) 大脳皮質 / cerebral cortex
キーワード(3)(和/英) 活性化パターン / Activated Pattern
キーワード(4)(和/英) 光トポグラフィ / optical topography
第 1 著者 氏名(和/英) 大木 幹雄 / Mikio OHKI
第 1 著者 所属(和/英) 日本工業大学工学部
Nippon Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 上原 俊樹 / Toshiki UEHARA
第 2 著者 所属(和/英) 日本工業大学工学部
Nippon Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 村瀬 晴喜 / Haruki MURASE
第 3 著者 所属(和/英) 日本工業大学工学部
Nippon Institute of Technology
発表年月日 2009-05-21
資料番号 SS2009-4,KBSE2009-4
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 41
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日