| 講演名 | 2009-05-14 RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) 伊藤 達也, 遠藤 立弥, 以西 雅章, 境 哲也, 星 陽一, |
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| 抄録(和) | 本研究では,RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の低温生成について検討した.RFマグネトロンスパッタリング法により生成した薄膜は,非加熱基板上にアナターゼ結晶を形成させることができた.RFマグネトロンスパッタリング法により生成した薄膜の光励起親水特性は,UV照射後30分で超親水状態を示した.有機物分解特性は,スパッタリング圧力10Paで生成した薄膜の方が5Paで生成した薄膜よりも高い活性指数を示した.また,非加熱基板上でも,高い有機物分解活性指数を示す薄膜が得られることが分かった. |
| 抄録(英) | Low-temperature preparation of the TiO_2 thin films was examined by using a RF magnetron sputtering method was examined. The thin film generated with the RF magnetron sputtering method. TiO_2 films of anatase structure could be prepared on the non-heated glass substrates. The photocatalytic properties of films were significant in the films prepared under the sputtering atmosphere of 10Pa rather than 5Pa. For the organic matter resolution characteristic, both anatase and rutile crystal structures showed high activities. For the optical excitation hydrophilicity characteristic, the anatase crystal was decent. |
| キーワード(和) | TiO_2薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / 光触媒 |
| キーワード(英) | TiO_2 thin film / RF magnetron sputtering / Photocatalyst |
| 資料番号 | ED2009-22,CPM2009-12,SDM2009-12 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 2009/5/7(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成と光触媒特性(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of TiO_2 thin films by RF magnetron sputtering method and their photocatalytic properties |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | TiO_2薄膜 / TiO_2 thin film |
| キーワード(2)（和/英） | RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | 光触媒 / Photocatalyst |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 伊藤 達也 / Tatsuya Ito |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Shizuoka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 遠藤 立弥 / Tatsuya Endo |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Shizuoka University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 以西 雅章 / Masaaki Isai |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Shizuoka University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 境 哲也 / Tetsuya Sakai |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学工学部システム情報学科 Graduate School of Engineering, Tokyo Polytechnic University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 星 陽一 / Yoichi Hoshi |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学工学部システム情報学科 Graduate School of Engineering, Tokyo Polytechnic University |
| 発表年月日 | 2009-05-14 |
| 資料番号 | ED2009-22,CPM2009-12,SDM2009-12 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | 23 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |