| 講演名 | 2009-05-14 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) 以西 雅章, 倉地 雄史, 山田 典史, 武内 俊憲, 宝珍 敬志, |
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| 抄録(和) | 青色EL発光特性向上のために、SrS:Cu薄膜EL(Electroluminescent Element)素子の作製条件を調査した。蒸発物の錠剤(ペレット)の焼成条件は、焼成温度600℃、焼成時間1時間とし、発光中心Cu_2Sの濃度は、0.3mol%一定とした。SrS:Cu発光層の膜厚を変数として、結晶特性の膜厚依存性を調べた。その結果、発光層の膜厚、蒸着時間が、それぞれ、約18000Å、180分の条件が最も結晶特性が良かった。熱処理温度の最適化では、最高温度700℃の急速アニールが最も効果があった。DFM(Dynamic Force Measurement)測定では、熱処理温度が700℃の場合が最もEL素子表面の粗さが小さかった。 |
| 抄録(英) | Preparation condition of SrS:Cu thin film electroluminescent element (EL) elements was investigated to improve blue-EL-emission properties. The sintering temperature and time were fixed at 600℃ and 1h, respectively. The Cu_2S concentration of 0.3mol% was used. The effect of the thickness of SrS:Cu emission layer on the crystallinity of EL elements was investigated. It was found that the best crystallinity was obtained under the thickness and deposition time of 18000Å and 3h, respectively. A rapid thermal annealing (RTA) process at 700℃ was also effective to improve crystallinity of EL elements. This RTA process was better than the normal annealing process at 450℃, 2min. From a dynamic force measurement (DFM), The surface roughness of EL elements was smallest after the RTA annealing at 700℃, 2min. |
| キーワード(和) | EL(Electroluminescent Element) / 青色発光素子 / SrS:Cu薄膜 / 発光層 |
| キーワード(英) | EL(Electroluminescent Element) / Blue emission elements / SrS:Cu films / Emission layer |
| 資料番号 | ED2009-18,CPM2009-8,SDM2009-8 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 2009/5/7(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation and Evaluation of SrS:Cu films for blue EL elements |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | EL(Electroluminescent Element) / EL(Electroluminescent Element) |
| キーワード(2)（和/英） | 青色発光素子 / Blue emission elements |
| キーワード(3)（和/英） | SrS:Cu薄膜 / SrS:Cu films |
| キーワード(4)（和/英） | 発光層 / Emission layer |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 以西 雅章 / Masaaki Isai |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部電気電子工学科 Faculty of Engineering, Shizuoka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 倉地 雄史 / Yuji Kurachi |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学研究科 Graduate School of Science & Engineering, Shizuoka University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 山田 典史 / Norifumi Yamada |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学研究科 Graduate School of Science & Engineering, Shizuoka University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 武内 俊憲 / Toshinori Takeuchi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部電気電子工学科 Faculty of Engineering, Shizuoka University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 宝珍 敬志 / Takashi Hochin |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部電気電子工学科 Faculty of Engineering, Shizuoka University |
| 発表年月日 | 2009-05-14 |
| 資料番号 | ED2009-18,CPM2009-8,SDM2009-8 |
| 巻番号（vol） | vol.109 |
| 号番号（no） | 23 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |