講演名 2009-04-24
塗布型有機薄膜トランジスタにおける絶縁膜表面SAM処理の検討(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
堀井 美徳, 井川 光弘, 坂口 幸一, 近松 真之, 吉田 郵司, 阿澄 玲子, 茂木 弘, 北川 雅彦, 小西 久俊, 八瀬 清志,
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抄録(和) ポリ(3-ヘキシルチオフェン)(P3HT)薄膜トランジスタのSiO_2ゲート絶縁膜上の自己組織化単分子膜(SAM)処理の検討を行い、絶縁膜の表面自由エネルギーと移動度の相関性を示した。表面自由エネルギーが低いデバイスで高い移動度が得られた。ドコシルトリクロロシラン処理したデバイスにおいては、移動度1.5×10^<-2>cm^2/Vs、オン/オフ比10^5以上が得られた。
抄録(英) We have investigated self-assembled monolayer (SAM) treatment on SiO_2 gate insulator of poly (3-hexylthiophene) (P3HT) thin-film transistor (TFT), and demonstrated a correlation between mobility and surface energy of the insulator. The device with lower surface free energy shows higher mobility. The docosyltrichlorosilane (DCTS)-treated device exhibits the best performance among the various SAM-treated device examined. Field-effect mobility and on/off ratio of the DCTS-treated P3HT TFT were 0.015cm^2/Vs and >10^5, respectively.
キーワード(和) 有機薄膜トランジスタ / ポリ(3-ヘキシルチオフェン) / 自己組織化単分子膜 / ドコシルトリクロロシラン
キーワード(英) Organic thin-film transistor / poly (3-hexylthiophene) / self-assembled monolayer / docosyltrichlorosilane
資料番号 SDM2009-3,OME2009-3
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2009/4/17(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 塗布型有機薄膜トランジスタにおける絶縁膜表面SAM処理の検討(薄膜(Si,化合物,有機,フレキシブル)機能デバイス・材料・評価技術及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Investigation of SAM treatment on gate insulator in solution processed organic thin-film transistor
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 有機薄膜トランジスタ / Organic thin-film transistor
キーワード(2)(和/英) ポリ(3-ヘキシルチオフェン) / poly (3-hexylthiophene)
キーワード(3)(和/英) 自己組織化単分子膜 / self-assembled monolayer
キーワード(4)(和/英) ドコシルトリクロロシラン / docosyltrichlorosilane
第 1 著者 氏名(和/英) 堀井 美徳 / Yoshinori HORII
第 1 著者 所属(和/英) 独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門:鳥取大学大学院工学研究科
Photonics Research Institute, National Institute of Advaced Industrial Science and Technology:Graduate School of Engineering, Tottori University
第 2 著者 氏名(和/英) 井川 光弘 / Mitsuhiro IKAWA
第 2 著者 所属(和/英) 独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
Photonics Research Institute, National Institute of Advaced Industrial Science and Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 坂口 幸一 / Koichi SAKAGUCHI
第 3 著者 所属(和/英) 独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
Photonics Research Institute, National Institute of Advaced Industrial Science and Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 近松 真之 / Masayuki CHIKAMATSU
第 4 著者 所属(和/英) 独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
Photonics Research Institute, National Institute of Advaced Industrial Science and Technology
第 5 著者 氏名(和/英) 吉田 郵司 / Yuji YOSHIDA
第 5 著者 所属(和/英) 独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
Photonics Research Institute, National Institute of Advaced Industrial Science and Technology
第 6 著者 氏名(和/英) 阿澄 玲子 / Reiko AZUMI
第 6 著者 所属(和/英) 独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
Photonics Research Institute, National Institute of Advaced Industrial Science and Technology
第 7 著者 氏名(和/英) 茂木 弘 / Hiroshi MOGI
第 7 著者 所属(和/英) 財団法人化学技術推進機構:信越化学工業株式会社
Japan Chemical Innovation Institute:Shin-Etsu Chemical
第 8 著者 氏名(和/英) 北川 雅彦 / Masahiko KITAGWA
第 8 著者 所属(和/英) 鳥取大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tottori University
第 9 著者 氏名(和/英) 小西 久俊 / Hisatoshi KONISHI
第 9 著者 所属(和/英) 鳥取大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tottori University
第 10 著者 氏名(和/英) 八瀬 清志 / Kiyoshi YASE
第 10 著者 所属(和/英) 独立行政法人産業技術総合研究所光技術研究部門
Photonics Research Institute, National Institute of Advaced Industrial Science and Technology
発表年月日 2009-04-24
資料番号 SDM2009-3,OME2009-3
巻番号(vol) vol.109
号番号(no) 20
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日