講演名 2008-11-27
深紫外・紫外域半導体発光デバイスのためのAlNテンプレートの高品質化(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
武田 智仁, 安斉 秀晃, 川西 英雄,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) AlN、GaN及びそれらの混晶半導体であるAlGaNなどの窒化物半導体では、基板との格子整合がとれていないことから、基板とエピタキシャル成長層とのヘテロ界面で、ミスフィット転位、欠陥が発生、エピタキシャル成長層に多くの転位や欠陥が含まれる。その結果、窒化物半導体を利用した発光デバイスの発光効率などに大きな影響を与える。この転位や欠陥を低減する方法として、我々は基板上に(AlN/GaN)多重バッファ層構造による歪み制御による貫通転位のフィルタリング効果、AlNテンプレート構造を導入と成長法の工夫とにより、テンプレート層の高品質化を達成してきた。ここでは、どのようにして高品質テンプレートを作製して来たのか、特に,今回は刃状転位密度を如何にして低減したかについて議論してみたい。
抄録(英) Misfit-dislocation and related defects were grown on hetero-interface between substrate and epitaxial layer, and influence to light emitter's efficiency, in ordinarily speaking. Up to this time, we have reported on (AlN/GaN) Multi-Buffer Layer structure and Alternate Source-Feeding MO-VPE technique for improving crystalline quality, because its affect to emission efficiency of optical devices. In this report, we are discussing on old and new improving technique of the crystalline quality of AlN template, especially edge-type dislocation, for UV and deep-UV light emitter applications.
キーワード(和) 深紫外半導体レーザ / AlNテンプレート
キーワード(英) Deep-UV semiconductor laser / AlN-Template
資料番号 ED2008-156,CPM2008-105,LQE2008-100
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2008/11/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 深紫外・紫外域半導体発光デバイスのためのAlNテンプレートの高品質化(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Improvement of AlN-template quality for deep-UV and UV light emitters
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 深紫外半導体レーザ / Deep-UV semiconductor laser
キーワード(2)(和/英) AlNテンプレート / AlN-Template
第 1 著者 氏名(和/英) 武田 智仁 / Tomohito TAKEDA
第 1 著者 所属(和/英) 工学院大学・工学部
Kogakuin University
第 2 著者 氏名(和/英) 安斉 秀晃 / Hideaki ANZAI
第 2 著者 所属(和/英) 工学院大学・工学部
Kogakuin University
第 3 著者 氏名(和/英) 川西 英雄 / Hideo KAWANISHI
第 3 著者 所属(和/英) 工学院大学・工学部
Kogakuin University
発表年月日 2008-11-27
資料番号 ED2008-156,CPM2008-105,LQE2008-100
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 323
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日