講演名 | 2009-01-30 深堀エッチングによるシリコン導波路上ブラッググレーティングのフィルタ特性改善(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般) 松井 純哉, 高橋 洋樹, 謝 楠, 宇高 勝之, |
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抄録(和) | WDMによる通信容量の増大に伴い,SOI(Silicon on Insulator)基板上Si導波路を用いた低コストかつ高機能な光デバイスが注目されている.我々はこれまでにDeep-RIEによって作製した高結合係数Siグレーティングにより,WDM用インターリーバとして機能するマイケルソン干渉計型フィルタを実現している.今回,ラフネスの少ない深堀グレーティングを作製することで約25dBの透過コントラスト,約6nmの帯域幅が得られ,グレーティング特性の大幅な向上を行うことができたので報告する. |
抄録(英) | With the increase of communication capacity by WDM, low-cost and high-performance optical devices using Si waveguide on silicon-on-insulator (SOI) substrates attract attention. So far we fabricated the Michelson Interferometer-type filter which works as a WDM interleaver consisting of large coupling-coefficient Si grating made by Deep-RIE. In this paper, we report the improvement of grating characteristics, such as a large transmission contrast of about 25dB and a band width of about 6nm for the grating by deep grating with reduced roughness. |
キーワード(和) | WDM / SOI / シリコングレーティング / フィルタ素子 / Deep-RIE |
キーワード(英) | WDM / SOI / Bragg Grating / Filter Device / Deep-RIE |
資料番号 | PN2008-69,OPE2008-172,LQE2008-169 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | OPE |
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開催期間 | 2009/1/22(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Optoelectronics (OPE) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 深堀エッチングによるシリコン導波路上ブラッググレーティングのフィルタ特性改善(フォトニックNWシステム・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,及び一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Improvement of Filtering Characteristics of Bragg Grating Formed on Silicon Waveguide by Deep-RIE Etching |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | WDM / WDM |
キーワード(2)(和/英) | SOI / SOI |
キーワード(3)(和/英) | シリコングレーティング / Bragg Grating |
キーワード(4)(和/英) | フィルタ素子 / Filter Device |
キーワード(5)(和/英) | Deep-RIE / Deep-RIE |
第 1 著者 氏名(和/英) | 松井 純哉 / Junya MATSUI |
第 1 著者 所属(和/英) | 早稲田大学理工学術院 Faculty of Science and Engineering, Waseda University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 高橋 洋樹 / Hiroki TAKAHASHI |
第 2 著者 所属(和/英) | 早稲田大学理工学術院 Faculty of Science and Engineering, Waseda University |
第 3 著者 氏名(和/英) | 謝 楠 / Nan XIE |
第 3 著者 所属(和/英) | 早稲田大学理工学術院 Faculty of Science and Engineering, Waseda University |
第 4 著者 氏名(和/英) | 宇高 勝之 / Katsuyuki UTAKA |
第 4 著者 所属(和/英) | 早稲田大学理工学術院 Faculty of Science and Engineering, Waseda University |
発表年月日 | 2009-01-30 |
資料番号 | PN2008-69,OPE2008-172,LQE2008-169 |
巻番号(vol) | vol.108 |
号番号(no) | 418 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |