講演名 2008-11-07
ポリイミドをターゲットとして作製した高周波スパッタ高分子薄膜 : 成膜時の電力と圧力が分子構造と基板との密着性に与える影響(有機薄膜・複合膜とデバイス応用,一般)
上村 彰宏, 岩森 暁, 西山 逸雄,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) ポリイミドをターゲットとしてアルゴンによる高周波スパッタリングにより銅基板上に高分子薄膜を作製し,XPSおよびFT-IRによる薄膜の分子構造の解析を行った.成膜時の圧力および電力を変化させることで,薄膜の組成および分子構造が変化することがわかった.また作製した薄膜についてピンオンディスク型の摩擦磨耗試験機による磨耗耐久性の評価の評価を行った.薄膜の磨耗耐久性は成膜時の圧力を上昇させること,また電力を低下させることにより向上した.さらにSAICASにより薄膜の銅基板との密着力および薄膜のせん断力の評価を行った.薄膜と銅基板との密着性も成膜時の圧力を上昇させること,また電力を低下させることにより向上した.薄膜のせん断力は圧力を上昇させることにより低下することがわかった.
抄録(英) Polymer thin films were sputtered onto copper substrates with polyimide target by a conventional r.f. sputtering apparatus. Sputtered thin films were evaluated by XPS and FT-IR. Elemental compositions and chemical bonding states were changed by pressure and r.f. power during sputtering. Wear durability of sputtered thin film was evaluated by pin-on-disk type scratch tester. Wear durability was improved by increasing pressure and decreasing r.f. power. Adhesion strength between thin film and copper substrate and shear stress of sputtered thin film were evaluated by SAICAS. Adhesion strength was also improved by increasing pressure and decreasing r.f. power. Shear strength was improved by increasing pressure.
キーワード(和) スパッタリング / ポリイミド / XPS / FT-IR / 磨耗耐久性 / SAICAS
キーワード(英) Sputtering / Polyimide / XPS / FT-IR / Wear durability / SAICAS
資料番号 OME2008-58
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2008/10/31(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) ポリイミドをターゲットとして作製した高周波スパッタ高分子薄膜 : 成膜時の電力と圧力が分子構造と基板との密着性に与える影響(有機薄膜・複合膜とデバイス応用,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Polymer thin film prepared by r.f. sputtering with a polyimide target : Effects of powers and pressures on molecular structure and adhesion to substrate
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) スパッタリング / Sputtering
キーワード(2)(和/英) ポリイミド / Polyimide
キーワード(3)(和/英) XPS / XPS
キーワード(4)(和/英) FT-IR / FT-IR
キーワード(5)(和/英) 磨耗耐久性 / Wear durability
キーワード(6)(和/英) SAICAS / SAICAS
第 1 著者 氏名(和/英) 上村 彰宏 / Akihiro UEMURA
第 1 著者 所属(和/英) 金沢大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Natural Science and Technology, Kanazawa University
第 2 著者 氏名(和/英) 岩森 暁 / Satoru IWAMORI
第 2 著者 所属(和/英) 金沢大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Natural Science and Technology, Kanazawa University
第 3 著者 氏名(和/英) 西山 逸雄 / Itsuo NISHIYAMA
第 3 著者 所属(和/英) ダイプラ・ウィンテス株式会社
DAIPLA WINTES CO., LTD
発表年月日 2008-11-07
資料番号 OME2008-58
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 280
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日