講演名 2008-11-28
100W出力AlGaN/GaN EモードHEMT増幅器(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
多木 俊裕, 吉川 俊英, 金村 雅仁, 今西 健治, 牧山 剛三, 岡本 直哉, 常信 和清, 原 直紀,
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抄録(和) 新規3層キャップ構造とリセスゲート構造を用いることにより、高耐圧、高いドレイン電流密度、低い電流コラプスを満たすエンハンスメント・モード動作AlGaN/GaN HEMTを作製した.閾値電圧は+0.25V、破壊耐圧は336V、最大ドレイン電流密度は520mA/mmが得られた.3層キャップ構造はGaN/AlN/GaNにて構成されており、ピエゾ分極の効果によりシート抵抗を低減している.本研究のHEMTの増幅器としての出力は2.5GHzにおいて1チップで126Wに達し、良好な歪特性も得ることができた.今後は、本構造を短ゲート素子へ展開することにより、高出力ミリ波帯増幅器の実現を目指す.
抄録(英) A novel piezoelectric-induced cap structure in an AlGaN/GaN high electron mobility transistor (HEMT) was developed for enhancement-mode (E-mode) operation with high breakdown voltage (BV_), high maximum drain current density (I_) and small current collapse. Our developed cap structure consists of a thin GaN/AlN/GaN triple-layer, which reduces the sheet resistance (R_) due to conduction band bending. The threshold voltage (V_) is +0.25V with a high BV_ of 336V, a high I_ of 520mA/mm and small current collapse by using the developed cap structure and a gate recess technique. The single-chip AlGaN/GaN E-mode HEMT amplifier achieved a high output power of 126W at 2.5GHz with improved distortion characteristics. This is the first report of an AlGaN/GaN E-mode HEMT with an output power of over 100W. The developed triple-layer cap structure is a candidate for realizing high-power millimeter-wave applications.
キーワード(和) 窒化ガリウム / 高電子移動度トランジスタ / エンハンスメントモード / ノーマリオフ / 耐圧 / リセス
キーワード(英) GaN / AlGaN / HEMT / FET / E-mode / normally-off / breakdown voltage / gate recess
資料番号 ED2008-178,CPM2008-127,LQE2008-122
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2008/11/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 100W出力AlGaN/GaN EモードHEMT増幅器(窒化物半導体光・電子デバイス・材料,及び関連技術,及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) An Over 100W AlGaN/GaN Enhancement-Mode HEMT Power Amplifier
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 窒化ガリウム / GaN
キーワード(2)(和/英) 高電子移動度トランジスタ / AlGaN
キーワード(3)(和/英) エンハンスメントモード / HEMT
キーワード(4)(和/英) ノーマリオフ / FET
キーワード(5)(和/英) 耐圧 / E-mode
キーワード(6)(和/英) リセス / normally-off
第 1 著者 氏名(和/英) 多木 俊裕 / Toshihiro OHKI
第 1 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 吉川 俊英 / Toshihide KIKKAWA
第 2 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 金村 雅仁 / Masahito KANAMURA
第 3 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) 今西 健治 / Kenji IMANISHI
第 4 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
第 5 著者 氏名(和/英) 牧山 剛三 / Kozo MAKIYAMA
第 5 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
第 6 著者 氏名(和/英) 岡本 直哉 / Naoya OKAMOTO
第 6 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
第 7 著者 氏名(和/英) 常信 和清 / Kazukiyo JOSHIN
第 7 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
第 8 著者 氏名(和/英) 原 直紀 / Naoki HARA
第 8 著者 所属(和/英) 富士通:富士通研究所
Fujitsu Ltd.:Fujitsu Laboratories Ltd.
発表年月日 2008-11-28
資料番号 ED2008-178,CPM2008-127,LQE2008-122
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 321
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日