| 講演名 | 2008-10-31 反応性高速スパッタ法により作製したTiO_2薄膜の構造と光触媒特性(薄膜プロセス・材料,一般) 星 陽一, 石原 太樹, 境 哲也, 雷 浩, 清水 英彦, |
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| 抄録(和) | メタルモードで動作するTi原子供給用スパッタ源と、酸化物モードで動作する酸素ラジカル供給用のスパッタ源を組み合わせた反応性スパッタ法を用いて数十nm/min以上の高い堆積速度での成膜を実現している,この方法で作製されるTiO_2薄膜の結晶構造は、基板へのTi原子と酸素分子供給量の比R_o/R_ |
| 抄録(英) | We reported that reactive sputtering by using two sputtering sources, one for the supply of Ti atoms and another for the supply of oxygen radicals was useful for the deposition of TiO_2 films at high rate above 20nm/min. In this work, structure and photocatalytic properties of the TiO_2 films deposited by the method were investigated. The film structure could be controlled by controlling the supply ratio R_o/R_ |
| キーワード(和) | TiO_2 / 薄膜 / 反応性スパッタ / 高速堆積 / 光触媒 |
| キーワード(英) | TiO_2 / Thin film / reactive sputter / high rate deposition / Photocatalytic film |
| 資料番号 | CPM2008-88 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2008/10/23(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 反応性高速スパッタ法により作製したTiO_2薄膜の構造と光触媒特性(薄膜プロセス・材料,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Structure and Photo-catalytic Properties of TiO_2 Films Deposited by High Rate Reactive Sputtering |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | TiO_2 / TiO_2 |
| キーワード(2)（和/英） | 薄膜 / Thin film |
| キーワード(3)（和/英） | 反応性スパッタ / reactive sputter |
| キーワード(4)（和/英） | 高速堆積 / high rate deposition |
| キーワード(5)（和/英） | 光触媒 / Photocatalytic film |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 星 陽一 / Yoichi HOSHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 石原 太樹 / Hiroki ISHIHARA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 境 哲也 / Tetsuya SAKAI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 雷 浩 / Hao Lei |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工芸大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnic University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 清水 英彦 / Hidehiko SHIMIZU |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 新潟大学工学部 Faculty of Engineering, Niigata University |
| 発表年月日 | 2008-10-31 |
| 資料番号 | CPM2008-88 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | 269 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |