講演名 2008-10-31
Mg膜とNi膜の膜厚比を変化させたMg-Ni薄膜の光学的特性(薄膜プロセス・材料,一般)
平田 真, 岡田 智弘, 清水 英彦, 岩野 春男, 川上 貴浩,
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抄録(和) Mg膜とNi膜を交互に積層する方法により,Mg膜とNi膜の膜厚比を変化させてMg-Ni膜を作製し,水素と反応させる前の薄膜の構造と光学的特性の関係の検討を行った。その結果,希釈された水素雰囲気中での透過率を向上させるためには,Mg膜とNi膜の界面に形成されるMg-Ni合金の生成量に適量があることが分かった。スパッタガス圧が高くなると,スパッタ粒子のエネルギー低くなり,Mg膜とNi膜の界面で合金形成量が減少すると考えられるが,試料膜の全体の膜厚が異なっている可能性があるため,さらなる検討が必要であることが分かった。
抄録(英) In order to examine the relations between the microstructure of the Mg-Ni film before hydrogen absorption and switchable mirror effect, Mg-Ni films were deposited by the changing the thickness ratio of the Mg film and the Ni film using alternate layer deposition of Mg film and Ni film by sputtering method. As a result, it was necessary to control the amount of the Mg-Ni alloy formed to the interface of the Mg film and the Ni film to improve transmittance of the Mg-Ni film with visible optical area in the diluted hydrogen gas atmosphere. When the sputtering gas pressure is high, it is thought that the amount of the Mg-Ni alloy formed to the interface of the Mg film and the Ni film decreases due to became the low energy of sputtering particles.
キーワード(和) Mg-Ni / 交互積層 / 調光ミラー
キーワード(英) Mg-Ni / Alternate Deposition / Switching mirror
資料番号 CPM2008-83
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2008/10/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Mg膜とNi膜の膜厚比を変化させたMg-Ni薄膜の光学的特性(薄膜プロセス・材料,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Optical properties of Mg-Ni thin films that changes the ratio of the thickness
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) Mg-Ni / Mg-Ni
キーワード(2)(和/英) 交互積層 / Alternate Deposition
キーワード(3)(和/英) 調光ミラー / Switching mirror
第 1 著者 氏名(和/英) 平田 真 / Makoto HIRATA
第 1 著者 所属(和/英) 新潟大学大学院自然科学研究科
Guraduate School of Science and Technology, Niigata University
第 2 著者 氏名(和/英) 岡田 智弘 / Tomohiro OKADA
第 2 著者 所属(和/英) 新潟大学大学院自然科学研究科
Guraduate School of Science and Technology, Niigata University
第 3 著者 氏名(和/英) 清水 英彦 / Hidehiko SHIMIZU
第 3 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 4 著者 氏名(和/英) 岩野 春男 / Haruo IWANO
第 4 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 5 著者 氏名(和/英) 川上 貴浩 / Takahiro KAWAKAMI
第 5 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
発表年月日 2008-10-31
資料番号 CPM2008-83
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 269
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日