講演名 2008-10-31
Al下地膜上へのSrAl_2O_4薄膜の剥離抑制の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
張 鋒, 纐纈 正和, 清水 英彦, 岩野 春男, 川上 貴浩,
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抄録(和) 本研究では,Al薄膜の上にSrAl_2O_4薄膜をスパッタ堆積した後,熱処理を行う方法によるアSrAl_2O_4薄膜の剥離や亀裂の抑制の検討を行った。その結果,Al下地膜及びスパッタ膜堆積時の酸素分圧は,熱処理によりSrAl_2O_4薄膜を作製する場合の結晶性向上や配向性制御や剥離や亀裂の抑制,発光強度の増加に有効であった。
抄録(英) In order to suppress that SrAl_2O_4 films on Al underlayer detach from substrate, SrAl_2O_4 thin films were attempted by post-annealing in vacuum of the films deposited on Al underlayer using reactive sputtering method. As a result, The Al film was effective to the crystallinity improvement, control of orientation and increase of the luminescence intensity of the SrAl_2O_4 film.
キーワード(和) SrAl_2O_4薄膜 / 長残光性蛍光体 / 真空熱処理 / 剥離
キーワード(英) SrAl_2O_4 thin film / long persistent phosphor / post-annealing in vacuum / detach
資料番号 CPM2008-82
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2008/10/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Al下地膜上へのSrAl_2O_4薄膜の剥離抑制の検討(薄膜プロセス・材料,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Examination to suppress that SrAl_2O_4 films on Al underlayer detach from substrate
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) SrAl_2O_4薄膜 / SrAl_2O_4 thin film
キーワード(2)(和/英) 長残光性蛍光体 / long persistent phosphor
キーワード(3)(和/英) 真空熱処理 / post-annealing in vacuum
キーワード(4)(和/英) 剥離 / detach
第 1 著者 氏名(和/英) 張 鋒 / Feng ZHANG
第 1 著者 所属(和/英) 新潟大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Niigata University
第 2 著者 氏名(和/英) 纐纈 正和 / Masakazu KOKETSU
第 2 著者 所属(和/英) 新潟大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Niigata University
第 3 著者 氏名(和/英) 清水 英彦 / Hidehiko SHIMIZU
第 3 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 4 著者 氏名(和/英) 岩野 春男 / Haruo IWANO
第 4 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 5 著者 氏名(和/英) 川上 貴浩 / Takahiro KAWAKAMI
第 5 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
発表年月日 2008-10-31
資料番号 CPM2008-82
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 269
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日