講演名 2008-07-11
Implementation of Channel Thermal Noise Model in CMOS RFIC Design(Session8A: Si Devices III)
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抄録(和)
抄録(英) In this paper, a simple channel thermal noise model for short-channel MOSFET is applied to the RF circuit design. In order to simulate MOSFET's noise performance in circuit simulators, a proper methodology is presented. The proposed noise model is verified by comparing simulated results to measured data at device and circuit level.
キーワード(和)
キーワード(英) RF MOSFET / Channel thermal noise / Low-noise amplifier
資料番号 ED2008-84,SDM2008-103
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2008/7/2(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Implementation of Channel Thermal Noise Model in CMOS RFIC Design(Session8A: Si Devices III)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / RF MOSFET
第 1 著者 氏名(和/英) / Jongwook Jeon
第 1 著者 所属(和/英)
Inter-university Semiconductor Research Center (ISRC), Seoul National University:School of Electrical Engineering, Seoul National University
発表年月日 2008-07-11
資料番号 ED2008-84,SDM2008-103
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 121
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日