講演名 2008-07-09
AlGaN/GaN-based Electron Devices with Low-temperature GaN Cap Layer(Session1: Compound Semiconductor Devices)
,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和)
抄録(英) We review our studies on AlGaN/GaN-based electron devices with a low-temperature GaN (LT-GaN) cap layer, such as heterostructure field-effect transistors (HFETs) and Schottky barrier diodes (SBDs). Novel HFETs with a LT-GaN cap layer have been proposed and fabricated, and we found that by using this LT-GaN cap layer as a gate insulator and providing surface passivation helps to significantly suppress current collapse and gate leakage in AlGaN/GaN HFETs. Furthermore, the combination of a LT-GaN cap layer and SiN film for the surface passivation led to both the suppression of current collapse and no significant degradation in the gate-drain breakdown voltage. We also investigated the correlation between the crystalline quality of LT-GaN cap layers and the current collapse in AlGaN/GaN HFETs, and found that a polycrystalline structure provides the most effective LT-GaN cap layer for suppressing current collapse. AlGaN/GaN SBDs using a LT-GaN cap layer to provide edge termination were also fabricated on Si substrates. The collapse-free AlGaN/GaN SBDs exhibited a high breakdown voltage of 1530V.
キーワード(和)
キーワード(英) AlGaN/GaN / low-temperature GaN / SBD / HFET / contact resistance / current collapse / leakage current / breakdown voltage / enhancement-mode
資料番号 ED2008-41,SDM2008-60
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2008/7/2(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) AlGaN/GaN-based Electron Devices with Low-temperature GaN Cap Layer(Session1: Compound Semiconductor Devices)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / AlGaN/GaN
第 1 著者 氏名(和/英) / Tadayoshi Deguchi
第 1 著者 所属(和/英)
Advanced Technology Center, Research Laboratory, New Japan Radio Co., Ltd.
発表年月日 2008-07-09
資料番号 ED2008-41,SDM2008-60
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 121
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日