講演名 2008-07-17
コンパクトモデルの進化 : 表面ポテンシャルを用いたHiSIMモデルの特徴(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
大黒 達也, 三浦 道子,
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抄録(和) LSI設計の基盤となるトランジスタのコンパクトモデルが代わりつつある。ここ10年間はCMOSデジタル回路に最適化されたVthベースのBSIM (Berkeley Short-Channel IGFET Model)が業界標準だったが、最近はアナログ回路やRF回路もCMOSで作る機会が増え,新しいモデルが必要になった。HiSIMを代表とする表面ポテンシャルモデルが、その期待に答えるべく脚光を浴びているが、どのような特徴やメリットがあるかについて御紹介する。
抄録(英) HiSIM model based on the surface potential model has been popular because the model can accurately simulate analog and RF circuits. On the other hand, BSIM model based on Vth can not satisfy those circuit requirements. In this paper, the concepts of the surface potential model and the performance of HiSIM model are presented.
キーワード(和) Compact model / Surface potential model / HiSIM model / BSIM model / Harmonic distortion
キーワード(英) Compact model / Surface potential model / HiSIM model / BSIM model / Harmonic distortion / 1/f noise
資料番号 SDM2008-133,ICD2008-43
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2008/7/10(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) コンパクトモデルの進化 : 表面ポテンシャルを用いたHiSIMモデルの特徴(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Progress of compact model for CMOS circuit design : Performance of HiSIM model based on the surface potential model
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) Compact model / Compact model
キーワード(2)(和/英) Surface potential model / Surface potential model
キーワード(3)(和/英) HiSIM model / HiSIM model
キーワード(4)(和/英) BSIM model / BSIM model
キーワード(5)(和/英) Harmonic distortion / Harmonic distortion
第 1 著者 氏名(和/英) 大黒 達也 / Tatsuya Ohguro
第 1 著者 所属(和/英) 東芝セミコンダクター社:広島大学
Toshiba Semiconductor Company:Hiroshima University
第 2 著者 氏名(和/英) 三浦 道子 / Michiko Miura-Mattausch
第 2 著者 所属(和/英) 広島大学
Hiroshima University
発表年月日 2008-07-17
資料番号 SDM2008-133,ICD2008-43
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 140
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日