講演名 2008-07-17
(100),(110)基板上High-κ/MetalゲートpMOSFETsのNBTIと1/fノイズ特性の相違に関する考察(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
佐藤 基之, 杉田 義博, 青山 敬幸, 奈良 安雄, 大路 譲,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) (110)基板は(100)基板上と比較して正孔の有効質量が実効的に小さいことから大きな正孔移動度が得られる。しかしながら、(110)面上のSi基板と酸化膜との界面準位密度は(100)面よりも多いことが知られている。また界面準位密度が高いのみではなく、そのP_bセンターと呼ばれる欠陥の状態が大きく異なる。P_bセンターには、P_とP_と呼ばれる二つの状態が存在することが知られているが、(100)面はそのP_とP_の両者を有するのに対して、(110)はP_しか存在しない。この欠陥状態の相違が、NBTI特性と1/fノイズ特性に与える影響について本論分では議論を行う。結論としては、(110)は(100)と比較してNBTI特性は優れるのに対し、ノイズは非常に多く増大する。これらの現象は、P_とP_の物理的性質の違いから説明することが可能である。
抄録(英) Using (110) substarate is one of promissing candidate for pMOSTET boost technology. (110) surface shows not only higher interface defect density between Si substrate and oxide but also different nature diffect condtion (P_b center) compared to (100) surface. Both P_ and P_ defect exist on (100), on the other hand, only P_ defect was obserbed on (110) surface. Based on this differenet nature of interface defect, NBTI on (110) is better than that on (100). On the other hand, 1/f noise on (110) much larger than that on (100). These phenomena can be explained with the physical characteristics difference between P_ and P_.
キーワード(和) 負バイアス温度不安定性 / 1/fノイズ / (110)基板 / P_bセンター
キーワード(英) NBTI / 1/f noise / (110) / P_b center
資料番号 SDM2008-128,ICD2008-38
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2008/7/10(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) (100),(110)基板上High-κ/MetalゲートpMOSFETsのNBTIと1/fノイズ特性の相違に関する考察(低電圧/低消費電力技術,新デバイス・回路とその応用)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Impact of the Different Nature of Interface Defect States on the NBTI and 1/f noise of High-κ/Metal Gate pMOSFETs between (100) and (110) Crystal Orientations
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 負バイアス温度不安定性 / NBTI
キーワード(2)(和/英) 1/fノイズ / 1/f noise
キーワード(3)(和/英) (110)基板 / (110)
キーワード(4)(和/英) P_bセンター / P_b center
第 1 著者 氏名(和/英) 佐藤 基之 / Motoyuki SATO
第 1 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.
第 2 著者 氏名(和/英) 杉田 義博 / Yoshihiro SUGITA
第 2 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.
第 3 著者 氏名(和/英) 青山 敬幸 / Takayuki AOYAMA
第 3 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.
第 4 著者 氏名(和/英) 奈良 安雄 / Yasuo NARA
第 4 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.
第 5 著者 氏名(和/英) 大路 譲 / Yuzuru OHJI
第 5 著者 所属(和/英) (株)半導体先端テクノロジーズ
Semiconductor Leading Edge Technologies Inc.
発表年月日 2008-07-17
資料番号 SDM2008-128,ICD2008-38
巻番号(vol) vol.108
号番号(no) 140
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日