| 講演名 | 2008-04-25 光電界センサを用いたGTEMセル内の校正領域に関する検討(EMC対策/一般) 呉 奕鋒, 石上 忍, 後藤 薫, 松本 泰, |
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| 抄録(和) | 本研究では,IEC61000-4-20に基づき,強電界プローブの校正におけるGTEMセル内の主電界成分の許容範囲に関する規定を提案し,その規定に従った強電界プローブの校正領域について検討を行った.電界測定において,測定環境に対する影響の少ない光電界センサを用いたが,光電界センサは強電界測定ができないため,校正領域を測定する前に,GTEMセル内における光電界センサを用いた測定システムの線形性およびセンサによる周囲への影響についての評価をする必要がある.この結果,本測定システムによる測定の線形性が保たれていることが確認できた.また,プローブによる周囲への電界影響についての評価の結果,強電界プローブに比べ,光電界センサの方が電界に対する影響が少ないことがわかった.さらに,光電界センサを用いたGTEMセル内の校正領域について検討した結果,プローブの校正における有効領域は中心位置から上下左右ともに10cmの領域と上方向10cm,左右方向ともに20cmの領域,この2つの領域で各周波数帯の誤差が最も少ないことが確認できた.そして,この2つの領域を強電界プローブの校正領域として提案した.また,GTEMセルの中心位置の電界測定において,電界強度の変動の大きい周波数帯では,提案した校正領域の誤差変動も大きいことがわかった. |
| 抄録(英) | We proposed a tolerance rule for primary field components to be used for calibrating electric field probes in the gigahertz transverse electromagnetic (GTEM) cell. This rule is based on the IEC 61000-4-20 standard. Following this rule, we examined the calibration area for electric field probes. In our study, an optical electric field sensor was used to measure the electric field. The optical electric field sensor, however, was not made for measuring high electric fields. To estimate a high electric field, we estimated the linearity of the measuring system with the optical electric field sensor. We then could determine the system's linearity. We also evaluated the effect that probes have on an electric field. We confirmed that the electric field variation with the optical electric field sensor is less than that with the electric probe. Using these results, we examined the calibration area for electric field probes in a GTEM cell. We found that the valid calibration area for electric field probes is 10cm in the directions of left, right, up, and down from the center point or 10cm in the upwards direction and 20cm in the directions of left and right from the center point. These areas have a smaller electric field deviation than other areas at all frequencies. Because of this, we propose that these two areas are valid calibration areas for calibrating electric field probes. We also found that the deviation of the proposed calibration area varies greatly at frequencies where the electric field measured at the center point in the GTEM cell greatly varies. |
| キーワード(和) | GTEMセル / 光電界センサ / 校正領域 / 電界 |
| キーワード(英) | GTEM cell / Optical electric field sensor / Calibration area / Electric field |
| 資料番号 | EMCJ2008-6 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMCJ |
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| 開催期間 | 2008/4/18(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromagnetic Compatibility (EMCJ) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | 光電界センサを用いたGTEMセル内の校正領域に関する検討(EMC対策/一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Calibration Area in GTEM Cell with Optical Electric Field Sensor |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | GTEMセル / GTEM cell |
| キーワード(2)（和/英） | 光電界センサ / Optical electric field sensor |
| キーワード(3)（和/英） | 校正領域 / Calibration area |
| キーワード(4)（和/英） | 電界 / Electric field |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 呉 奕鋒 / Ifong WU |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 情報通信研究機構 National Institute of Information and Communications Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 石上 忍 / Shinobu ISHIGAMI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 情報通信研究機構 National Institute of Information and Communications Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 後藤 薫 / Kaoru GOTOH |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 情報通信研究機構 National Institute of Information and Communications Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 松本 泰 / Yasushi MATSUMOTO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 情報通信研究機構 National Institute of Information and Communications Technology |
| 発表年月日 | 2008-04-25 |
| 資料番号 | EMCJ2008-6 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | 21 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |