| 講演名 | 2008-05-15 RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) 遠藤 立弥, 水地 裕一, 以西 雅章, |
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| 抄録(和) | TiO_2薄膜は、近紫外光の照射により、有機物分解特性や親水特性を示すことから、光触媒材料として注目されている。近年、可視光応答化の研究が盛んに行われており、今後様々な基材に担持されることが予想される。しかし、既存の生成方法の多くは熱処理を必要としたり、付着力が弱いという問題がある。本研究では、RFマグネトロンスパッタリング法により、光触媒特性を有するTiO_2薄膜を非加熱基板上に生成することを目的とした。ターゲットにはTiO_2粉末を使用し、雰囲気ガスはArのみとした。基板加熱の有無による結晶構造の変化や、表面形態の変化の観察を行った結果、非加熱基板上にアナターゼ型TiO_2薄膜が生成できることを確認できた。 |
| 抄録(英) | TiO_2 films have been focused as a photocatalyst. They have remarkable properties, for example, to resolute organic pollutant and to give hydrophobicity by irradiating near-ultra-violet-light. In the conventional preparation processes, a heating process should be used to improve their crystallinity and films are easily peeled from substrates. This research is aimed to prepare TiO_2 films on slide-glass substrates at room temperature by using magnetron sputtering method. TiO_2 powder was used as a target material. Ar gas was used as a sputtering atmosphere. Variations of crystal properties and morphology were investigated as a function of substrate temperature. It was found that Anatase-type films could be prepared at room temperature. |
| キーワード(和) | TiO_2薄膜 / RFマグネトロンスパッタリング / 光触媒 / 低温生成 |
| キーワード(英) | TiO_2 thin film / RF magnetron sputtering / photocatalyst / low temperature preparation |
| 資料番号 | ED2008-6,CPM2008-14,SDM2008-26 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2008/5/8(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | RFマグネトロンスパッタリング法によるTiO_2薄膜の生成(結晶成長,評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,電子・光材料)) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of TiO_2 films by RF magnetron sputtering method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | TiO_2薄膜 / TiO_2 thin film |
| キーワード(2)（和/英） | RFマグネトロンスパッタリング / RF magnetron sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | 光触媒 / photocatalyst |
| キーワード(4)（和/英） | 低温生成 / low temperature preparation |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 遠藤 立弥 / Tatsuya ENDO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院工学研究科 Graduate School of Engineering, Shizuoka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 水地 裕一 / Yuichi MIZUCHI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学工学部 Faculty of Engineering, Shizuoka University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 以西 雅章 / Masaaki ISAI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院工学研究科:静岡大学工学部 Graduate School of Engineering, Shizuoka University:Faculty of Engineering, Shizuoka University |
| 発表年月日 | 2008-05-15 |
| 資料番号 | ED2008-6,CPM2008-14,SDM2008-26 |
| 巻番号（vol） | vol.108 |
| 号番号（no） | 36 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |