講演名 | 2008-04-11 マイクロレンズを利用したSi膜エキシマレーザ誘起結晶粒の位置制御(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般) 葉 文昌, 戴 漢昇, 陳 信吉, 陳 秉群, |
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抄録(和) | マイクロレンズを利用したSi膜のエキシマレーザ誘起結晶粒位置制御法では、横方向結晶粒の形態は種付け工程の種結晶形状に依存する。本論文では種結晶とそれを用いて成長させた横方向結晶粒をSEM、AFM、及びTEMを用いて調べ、エキシマレーザエネルギー密度と結晶形態の相関性を調べた。更に横方向成長過程のその場観察を行い、結晶成長速度は5m/sであるを求めた。 |
抄録(英) | |
キーワード(和) | |
キーワード(英) | |
資料番号 | SDM2008-1,OME2008-1 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | OME |
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開催期間 | 2008/4/4(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | マイクロレンズを利用したSi膜エキシマレーザ誘起結晶粒の位置制御(TFTの材料・デバイス技術・応用及び一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | |
第 1 著者 氏名(和/英) | 葉 文昌 / Wenchang Yeh |
第 1 著者 所属(和/英) | 国立台湾科技大学電子工程系 Department of Electronics Engineering, National Taiwan University of Science and Technology |
第 2 著者 氏名(和/英) | 戴 漢昇 / Hanseng Dai |
第 2 著者 所属(和/英) | 国立台湾科技大学電子工程系 Department of Electronics Engineering, National Taiwan University of Science and Technology |
第 3 著者 氏名(和/英) | 陳 信吉 / Hsin-Chi Chen |
第 3 著者 所属(和/英) | 国立台湾科技大学電子工程系:蘭陽技術学院自動化工程系 Department of Electronics Engineering, National Taiwan University of Science and Technology:Lan Yan Institute of Technology, Department of Automatic Engineering |
第 4 著者 氏名(和/英) | 陳 秉群 / Bing-Cyun Chen |
第 4 著者 所属(和/英) | 国立台湾科技大学電子工程系 Department of Electronics Engineering, National Taiwan University of Science and Technology |
発表年月日 | 2008-04-11 |
資料番号 | SDM2008-1,OME2008-1 |
巻番号(vol) | vol.108 |
号番号(no) | 2 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 5 |
発行日 |