講演名 2008-01-29
分子線エピタキシー法によるGaAs_<1-x>Bi_x/GaAs多重量子井戸構造の製作(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)
木下 雄介, 富永 依里子, 尾江 邦重, 吉本 昌広,
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抄録(和) 温度無依存発振波長を持つ新規半導体レーザ製作に向けて、GaAs基板上にGaAs_<1-x>Bi_x/GaAs多重量子井戸(MQW)構造を分子線エピタキシー(MBE)法により製作した。 MQW構造からのX線回折(XRD)パターンにサテライトピークが見られ、MQW構造が製作できていることを確認した。MQW試料のホトルミネセンス(PL)のピークエネルギーは井戸層厚を小さくするにつれてブルーシフトした。これは量子サイズ効果によるものといえる。700℃以下の温度範囲でアニールした試料のXRDパターンのピーク強度やピーク位置に変化は見られなかった。PLピークエネルギーにも大きな変化が見られず、700℃以下でGaAs_<1-x>Bi_x/GaAs-MQW構造は熱的に安定であった。
抄録(英) GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs multi-quantum well (MQW) structures were grown on GaAs substrate by molecular beam epitaxy (MBE) towards a new semiconductor laser diode with a temperature-insensitive wavelength. Satellite peaks ascribed to the MQW structure were observed in the X-ray diffraction (XRD) measurement. With decreasing the well width of MQW, the photoluminescence (PL) peak energy increased, indicating the quantum size effect. Both intensities and position of the satellite peaks of MQW in XRD did not change, and the PL peak energy was kept constant, after annealing at temperatures less than 700℃. This confirms the thermal stability of the GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs MQW structure.
キーワード(和) GaAs / GaAs_<1-x>Bi_x / 半金属 / 多重量子井戸 / MBE
キーワード(英) GaAs / GaAs_<1-x>Bi_x / semimetal / multi-quantum wells / molecular beam epitaxy
資料番号 PN2007-56,OPE2007-164,LQE2007-142
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2008/1/21(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 分子線エピタキシー法によるGaAs_<1-x>Bi_x/GaAs多重量子井戸構造の製作(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子光スイッチング,導波路解析,および一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Growth of GaAs_<1-x>Bi_x/GaAs Multi-Quantum Wells by Molecular Beam Epitaxy
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GaAs / GaAs
キーワード(2)(和/英) GaAs_<1-x>Bi_x / GaAs_<1-x>Bi_x
キーワード(3)(和/英) 半金属 / semimetal
キーワード(4)(和/英) 多重量子井戸 / multi-quantum wells
キーワード(5)(和/英) MBE / molecular beam epitaxy
第 1 著者 氏名(和/英) 木下 雄介 / Yusuke Kinoshita
第 1 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学工芸科学研究科
Department of Electronics, Kyoto Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 富永 依里子 / Yoriko Tominaga
第 2 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学工芸科学研究科
Department of Electronics, Kyoto Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 尾江 邦重 / Kunishige Oe
第 3 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学工芸科学研究科
Department of Electronics, Kyoto Institute of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 吉本 昌広 / Masahiro Yoshimoto
第 4 著者 所属(和/英) 京都工芸繊維大学工芸科学研究科
Department of Electronics, Kyoto Institute of Technology
発表年月日 2008-01-29
資料番号 PN2007-56,OPE2007-164,LQE2007-142
巻番号(vol) vol.107
号番号(no) 466
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日