| 講演名 | 2007-12-14 アルコール系溶液による強誘電体薄膜特性の焼成条件依存性(シリコン関連材料の作製と評価) 山口 正樹, 増田 陽一郎, |
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| 抄録(和) | 近年,次世代の薄膜形成手法のひとつであるプリンテッド・エレクトロニクス手法に応用できるアルコール系インクから,強誘電体薄膜の合成を行った.アルコールに可溶なトリターシャリーアミロキシビスマス,イソプロポキシチタンを原料とし,比較的低温の750℃においてチタン酸ビスマス単相膜を得た.この薄膜は強誘電特性を示し,自発分極および抗電界はそれぞれ2.6μC/cm^2および36kV/cmであった.また分極疲労耐性は10^8回以上を実現した. |
| 抄録(英) | The inkjet technique is devised as one of the thin film formation method of the next generation. We synthesized the ferroelectric thin film of bismuth titanate by using alcohol-related solutions. The single phase film was obtained at 750℃ showed ferroelectric characteristics. The remanent polarization and the coercive field were 2.6μC/cm^2 and 36kV/cm, respectively, and shows fatigue properties up to 10^8 times. |
| キーワード(和) | アルコール系インク / インクジェットプリンタ / チタン酸ビスマス / 薄膜 |
| キーワード(英) | Alcohol-Related Solutions / Inkjet Printer / Bismuth Titanate / Thin Films |
| 資料番号 | SDM2007-236 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2007/12/7(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | アルコール系溶液による強誘電体薄膜特性の焼成条件依存性(シリコン関連材料の作製と評価) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication and Physical Properties of Ferroelectric Thin Films by Alcohol-related Materials |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | アルコール系インク / Alcohol-Related Solutions |
| キーワード(2)（和/英） | インクジェットプリンタ / Inkjet Printer |
| キーワード(3)（和/英） | チタン酸ビスマス / Bismuth Titanate |
| キーワード(4)（和/英） | 薄膜 / Thin Films |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 山口 正樹 / Masaki YAMAGUCHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 芝浦工業大学工学部電子工学科 Faculty of Engineering, Shibaura Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 増田 陽一郎 / Yoichiro MASUDA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 八戸工業大学工学部知能システム工学科 Faculty of Engineering, Hachinohe Institute of Technology |
| 発表年月日 | 2007-12-14 |
| 資料番号 | SDM2007-236 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | 388 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |