講演名 | 2007-12-14 Fe_3Si/Ge(111)ヘテロエピタキシャル成長の軸配向性の評価(シリコン関連材料の作製と評価) 平岩 佑介, 安藤 裕一郎, 熊野 守, 上田 公二, 佐道 泰造, 宮尾 正信, 鳴海 一雅, 前田 佳均, |
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抄録(和) | ラザフォード後方散乱分光法(RBS)を用いて,エピタキシャル成長したFe_3Si/Ge(111)の軸配向性を評価した.軸配向性は堆積温度に強く依存し,200℃以上で劣化することが分かった.そこで,本研究では堆積温度200℃における軸配向性の劣化を明らかにするために,RBS,電子線回折(ED)およびイオンチャネリング・ディップ測定を用いて軸配向性を検討した.その結果,堆積温度200℃における軸配向性の劣化は,Ge(111)面でのエピタキシャル成長時のFe_3Si<111>軸の傾斜成長が原因であることを明らかにした. |
抄録(英) | The axial orientation of epitaxially grown Fe_3Si on Ge(111) has been investigated by Rutherford Backscattering spectroscopy. It has been reported that the axial orientation is highly dependent on growth temperature (T_G), and that the degradation of axial orientation is caused above T_G=200℃. In this study, we have investigated the axial orientation of Fe_3Si/Ge(111) grown at 200℃ by electron diffraction and measurement of channel dip curves. We found that the degradation of axial orientation observed at T_G=200℃ was attributed mainly to the tilt of Fe_3Si<111> axis. |
キーワード(和) | エピタキシャル成長 / Fe_3Si / ラザフォード後方散乱分光法 / 電子線回折 |
キーワード(英) | Epitaxial growth / Fe_3Si / Rutherford backscattering spectroscopy / Electron diffraction |
資料番号 | SDM2007-230 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2007/12/7(から1日開催) |
開催地(和) | |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | Fe_3Si/Ge(111)ヘテロエピタキシャル成長の軸配向性の評価(シリコン関連材料の作製と評価) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Axial orientation of epitaxially grown Fe_3Si on Ge(111) |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | エピタキシャル成長 / Epitaxial growth |
キーワード(2)(和/英) | Fe_3Si / Fe_3Si |
キーワード(3)(和/英) | ラザフォード後方散乱分光法 / Rutherford backscattering spectroscopy |
キーワード(4)(和/英) | 電子線回折 / Electron diffraction |
第 1 著者 氏名(和/英) | 平岩 佑介 / Yusuke HIRAIWA |
第 1 著者 所属(和/英) | 京都大学大学院エネルギー科学研究科 Department of Energy Science and Technology, Kyoto University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 安藤 裕一郎 / Yu-ichiro ANDO |
第 2 著者 所属(和/英) | 九州大学大学院システム情報研究院 Department of Electronics, Kyushu University |
第 3 著者 氏名(和/英) | 熊野 守 / Mamoru KUMANO |
第 3 著者 所属(和/英) | 九州大学大学院システム情報研究院 Department of Electronics, Kyushu University |
第 4 著者 氏名(和/英) | 上田 公二 / Koji UEDA |
第 4 著者 所属(和/英) | 九州大学大学院システム情報研究院 Department of Electronics, Kyushu University |
第 5 著者 氏名(和/英) | 佐道 泰造 / Taizoh SADOH |
第 5 著者 所属(和/英) | 九州大学大学院システム情報研究院 Department of Electronics, Kyushu University |
第 6 著者 氏名(和/英) | 宮尾 正信 / Masanobu MIYAO |
第 6 著者 所属(和/英) | 九州大学大学院システム情報研究院 Department of Electronics, Kyushu University |
第 7 著者 氏名(和/英) | 鳴海 一雅 / Kazumasa NARUMI |
第 7 著者 所属(和/英) | 日本原子力研究開発機構・先端基礎研究センター Advanced Science Research Center, Japan Atomic Energy Agency |
第 8 著者 氏名(和/英) | 前田 佳均 / Yoshihito MAEDA |
第 8 著者 所属(和/英) | 京都大学大学院エネルギー科学研究科 Department of Energy Science and Technology, Kyoto University |
発表年月日 | 2007-12-14 |
資料番号 | SDM2007-230 |
巻番号(vol) | vol.107 |
号番号(no) | 388 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |