講演名 2007-12-14
Fe_3Si/Ge(111)ヘテロエピタキシャル成長の軸配向性の評価(シリコン関連材料の作製と評価)
平岩 佑介, 安藤 裕一郎, 熊野 守, 上田 公二, 佐道 泰造, 宮尾 正信, 鳴海 一雅, 前田 佳均,
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抄録(和) ラザフォード後方散乱分光法(RBS)を用いて,エピタキシャル成長したFe_3Si/Ge(111)の軸配向性を評価した.軸配向性は堆積温度に強く依存し,200℃以上で劣化することが分かった.そこで,本研究では堆積温度200℃における軸配向性の劣化を明らかにするために,RBS,電子線回折(ED)およびイオンチャネリング・ディップ測定を用いて軸配向性を検討した.その結果,堆積温度200℃における軸配向性の劣化は,Ge(111)面でのエピタキシャル成長時のFe_3Si<111>軸の傾斜成長が原因であることを明らかにした.
抄録(英) The axial orientation of epitaxially grown Fe_3Si on Ge(111) has been investigated by Rutherford Backscattering spectroscopy. It has been reported that the axial orientation is highly dependent on growth temperature (T_G), and that the degradation of axial orientation is caused above T_G=200℃. In this study, we have investigated the axial orientation of Fe_3Si/Ge(111) grown at 200℃ by electron diffraction and measurement of channel dip curves. We found that the degradation of axial orientation observed at T_G=200℃ was attributed mainly to the tilt of Fe_3Si<111> axis.
キーワード(和) エピタキシャル成長 / Fe_3Si / ラザフォード後方散乱分光法 / 電子線回折
キーワード(英) Epitaxial growth / Fe_3Si / Rutherford backscattering spectroscopy / Electron diffraction
資料番号 SDM2007-230
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2007/12/7(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Fe_3Si/Ge(111)ヘテロエピタキシャル成長の軸配向性の評価(シリコン関連材料の作製と評価)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Axial orientation of epitaxially grown Fe_3Si on Ge(111)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) エピタキシャル成長 / Epitaxial growth
キーワード(2)(和/英) Fe_3Si / Fe_3Si
キーワード(3)(和/英) ラザフォード後方散乱分光法 / Rutherford backscattering spectroscopy
キーワード(4)(和/英) 電子線回折 / Electron diffraction
第 1 著者 氏名(和/英) 平岩 佑介 / Yusuke HIRAIWA
第 1 著者 所属(和/英) 京都大学大学院エネルギー科学研究科
Department of Energy Science and Technology, Kyoto University
第 2 著者 氏名(和/英) 安藤 裕一郎 / Yu-ichiro ANDO
第 2 著者 所属(和/英) 九州大学大学院システム情報研究院
Department of Electronics, Kyushu University
第 3 著者 氏名(和/英) 熊野 守 / Mamoru KUMANO
第 3 著者 所属(和/英) 九州大学大学院システム情報研究院
Department of Electronics, Kyushu University
第 4 著者 氏名(和/英) 上田 公二 / Koji UEDA
第 4 著者 所属(和/英) 九州大学大学院システム情報研究院
Department of Electronics, Kyushu University
第 5 著者 氏名(和/英) 佐道 泰造 / Taizoh SADOH
第 5 著者 所属(和/英) 九州大学大学院システム情報研究院
Department of Electronics, Kyushu University
第 6 著者 氏名(和/英) 宮尾 正信 / Masanobu MIYAO
第 6 著者 所属(和/英) 九州大学大学院システム情報研究院
Department of Electronics, Kyushu University
第 7 著者 氏名(和/英) 鳴海 一雅 / Kazumasa NARUMI
第 7 著者 所属(和/英) 日本原子力研究開発機構・先端基礎研究センター
Advanced Science Research Center, Japan Atomic Energy Agency
第 8 著者 氏名(和/英) 前田 佳均 / Yoshihito MAEDA
第 8 著者 所属(和/英) 京都大学大学院エネルギー科学研究科
Department of Energy Science and Technology, Kyoto University
発表年月日 2007-12-14
資料番号 SDM2007-230
巻番号(vol) vol.107
号番号(no) 388
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日