講演名 2007-11-16
フォトポリマーとマスク間距離が格子形成に及ぼす影響(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
田邉 春美, 小野 浩司, 川月 喜弘,
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抄録(和) 光反応性有機材料への光照射で引き起こされる化学反応や物質移動によって回折格子形成が可能であることは広く知られている。回折格子の作製法としてとして代表的なマスク露光法は簡便な光学系で大面積露光が可能なことやパターンの多様性から有用な方法である。近接露光を行う際のフォトマスクと基板との間のギャップ長は作製された格子の特性を決定する重要なパラメーターであり、本研究ではフォトポリマーヘマスク露光法によって回折格子を記録した際の回折特性とギャップ長との相関関係について、更に光源のコヒーレント性による格子形成の違いについて調査した。
抄録(英) It is well known that optical diffraction gratings can be fabricated by photochemical reaction and/or material migration in photo-reactive organic material. One of sophisticated methods for grating formation is mask exposure method. Mask exposure method is useful and convenient to fabricate the large-area gratings. Gap length between the optical mask and substrate is one of very important parameters in proximity exposure. In the present study, considering the coherent length of light source, we intensively study the effects of gap between optical mask and photopolymer on grating formation.
キーワード(和) 回折格子 / フォトポリマー / マスク露光 / ギャップ長
キーワード(英) Grating / Photopolymer / Mask exposure method / Gap length
資料番号 OME2007-62,OPE2007-129
発行日

研究会情報
研究会 OPE
開催期間 2007/11/9(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Optoelectronics (OPE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) フォトポリマーとマスク間距離が格子形成に及ぼす影響(光機能性有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Effects of gap between optical mask and photopolymer on grating formation
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 回折格子 / Grating
キーワード(2)(和/英) フォトポリマー / Photopolymer
キーワード(3)(和/英) マスク露光 / Mask exposure method
キーワード(4)(和/英) ギャップ長 / Gap length
第 1 著者 氏名(和/英) 田邉 春美 / Harumi TANABE
第 1 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学
Nagaoka University of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 小野 浩司 / Hiroshi ONO
第 2 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学
Nagaoka University of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 川月 喜弘 / Nobuhiro KAWATSUKI
第 3 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学
University of Hyogo
発表年月日 2007-11-16
資料番号 OME2007-62,OPE2007-129
巻番号(vol) vol.107
号番号(no) 322
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日