| 講演名 | 2007-10-05 減圧雰囲気下でプラズマとCa(OH)_2/CaOを用いる高効率フロロカーボン除去システムの開発(プロセス科学と新プロセス技術) 鈴木 克昌, 石原 良夫, 迫田 薫, 白井 泰雪, 寺本 章伸, 平山 昌樹, 大見 忠弘, 渡辺 高行, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 減圧雰囲気下で2MHzICPプラズマ源および2つのCa(OH)_2/CaO剤充填筒で構成し、かつフッ素酸排水処理を必要としないフロロカーボン除去システムを開発した。2MHzICPプラズマはフロロカーボンを分解し、Ca(OH)_2/CaO剤充填筒は活性なフッ素化物を固定する。CF_4導入量200cc/min、プラズマ出力3kWおよび圧力300Paの条件で、フロロカーボンの中で最も安定なガスの1つであるCF_4を99.9%の効率で除去することができた。この結果をCO_2換算排出量で評価し、残存CF_4に起因する排出量(0.57L/min)に対してプラズマ源消費電力に起因する排出量(12.35L/min)が非常に大きいことを明らかにした。 |
| 抄録(英) | We have developed a PFCs abatement system consisting a 2MHz ICP plasma source and two columns filled with Ca(OH)_2/CaO under a decompression atmosphere without fluorine acid drainage treatment. The 2MHz ICP plasma decomposes the fluorocarbons. The Ca(OH)_2/CaO columns immobilize the reactive fluorinated compounds. Under the conditions of a CF_4 flow rate of 200cc/min, a power supply output of 3kW and a pressure of 300Pa, CF_4 which is one of the most stable gases among fluorocarbons, could be removed with the efficiency of 99.9%. By evaluation of this result with CO_2 equivalent emissions, it was cleared that the emissions caused by plasma power consumption was much larger than that caused by CF_4 emissions. |
| キーワード(和) | フロロカーボン / 除害 / プラズマ / Ca(OH)_2 / 高効率除去 |
| キーワード(英) | fluorocarbon / abatement / plasma / Ca(OH)_2 / high removal efficiency |
| 資料番号 | SDM2007-184 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
|---|---|
| 開催期間 | 2007/9/27(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 減圧雰囲気下でプラズマとCa(OH)_2/CaOを用いる高効率フロロカーボン除去システムの開発(プロセス科学と新プロセス技術) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of a high efficiency Fluorocarbon abatement system utilizing plasma and Ca(OH)_2/CaO under a decompression atmosphere |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | フロロカーボン / fluorocarbon |
| キーワード(2)（和/英） | 除害 / abatement |
| キーワード(3)（和/英） | プラズマ / plasma |
| キーワード(4)（和/英） | Ca(OH)_2 / Ca(OH)_2 |
| キーワード(5)（和/英） | 高効率除去 / high removal efficiency |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 鈴木 克昌 / Katsumasa SUZUKI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部 TAIYO NIPPON SANSO Corporation |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 石原 良夫 / Yoshio ISHIHARA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部 TAIYO NIPPON SANSO Corporation |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 迫田 薫 / Kaoru SAKODA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 大陽日酸株式会社電子機材事業本部事業戦略推進部 TAIYO NIPPON SANSO Corporation |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 白井 泰雪 / Yasuyuki SHIRAI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 寺本 章伸 / Akinobu TERAMOTO |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 平山 昌樹 / Masaki HIRAYAMA |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 大見 忠弘 / Tadahiro OHMI |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東北大学未来科学技術共同研究センター New Industry Creation Hatchery Center, Tohoku University |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 渡辺 高行 / Takayuki WATANABE |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 宇部マテリアルズ株式会社研究開発本部技術企画部 Ube Material Industries, Ltd. |
| 発表年月日 | 2007-10-05 |
| 資料番号 | SDM2007-184 |
| 巻番号（vol） | vol.107 |
| 号番号（no） | 245 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |